摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章绪论 | 第10-18页 |
1.1 研究背景 | 第10-11页 |
1.2 有机半导体激光 | 第11-14页 |
1.2.1 有机半导体光电特性 | 第12-13页 |
1.2.2 有机半导体的分类 | 第13-14页 |
1.2.3 常见的激光谐振腔 | 第14页 |
1.3 有机晶体 | 第14-16页 |
1.4 纳米压印技术 | 第16-18页 |
1.4.1 热压印(HEL) | 第16-18页 |
第2章 1,4-双(2-甲基苯乙烯基)苯矩形单晶的制备与激光性质研究 | 第18-28页 |
2.1 常见的制备高质量有机晶体单晶的方法 | 第18-21页 |
2.1.1 物理气相生长法 | 第18-19页 |
2.1.2 高温熔体生长法 | 第19页 |
2.1.3 低温溶液生长法 | 第19-21页 |
2.2 1,4-双(2-甲基苯乙烯基)苯矩形单晶的制备 | 第21-22页 |
2.2.1 实验材料及仪器设备 | 第21页 |
2.2.2 OMSB矩形单晶的制备 | 第21-22页 |
2.2.3 结构表征 | 第22页 |
2.3 结果与讨论 | 第22-26页 |
2.3.1 矩形OMSB有机晶体的结构 | 第22-23页 |
2.3.2 矩形OMSB有机晶体微结构的光学性质 | 第23-26页 |
2.4 本章小结 | 第26-28页 |
第3章 纳米压印法制备1,4-双(2-甲基苯乙烯基)苯晶体的微腔阵列及其激光性质的研究 | 第28-38页 |
3.1 实验部分 | 第30-31页 |
3.1.1 实验试剂 | 第30页 |
3.1.2 仪器设备 | 第30-31页 |
3.2 1,4-双(2-甲基苯乙烯基)苯晶体微腔阵列的制备 | 第31-32页 |
3.2.1 光刻 | 第31-32页 |
3.2.2 PDMS转写 | 第32页 |
3.2.3 纳米压印 | 第32页 |
3.3 结果与讨论 | 第32-36页 |
3.3.1 1,4-双(2-甲基苯乙烯基)苯晶体的微腔激光器阵列的形貌 | 第32-34页 |
3.3.2 1,4-双(2-甲基苯乙烯基)苯晶体的微腔激光器阵列的光学性质 | 第34-35页 |
3.3.3 1,4-双(2-甲基苯乙烯基)苯晶体的微腔阵列中单个微腔激光器激光性质的研究 | 第35-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-38页 |
第4章 结论与展望 | 第38-40页 |
参考文献 | 第40-50页 |
作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第50-51页 |
致谢 | 第51页 |