摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 引言 | 第10-18页 |
1.1 课题背景 | 第10-14页 |
1.1.1 放射性同位素源 | 第10-11页 |
1.1.2 同步辐射源 | 第11-12页 |
1.1.3 布拉格衍射单能辐射源 | 第12-13页 |
1.1.4 K荧光参考辐射源 | 第13-14页 |
1.2 研究意义 | 第14-15页 |
1.2.1 为低能辐射剂量仪器仪表提供计量保障 | 第14页 |
1.2.2 解决低能核辐射探测器量值溯源问题 | 第14-15页 |
1.3 国内外研究现状和发展动向 | 第15-16页 |
1.4 研究内容 | 第16-18页 |
1.4.1 荧光理论分析以及蒙特卡罗MCNP5模拟 | 第16页 |
1.4.2 装置设计与实验测量 | 第16-18页 |
第2章 蒙特卡罗模拟荧光装置 | 第18-31页 |
2.1 K荧光辐射源产生原理 | 第18页 |
2.2 辐射体荧光产额 | 第18-20页 |
2.2.1 K荧光产额 | 第19-20页 |
2.3 MC程序介绍 | 第20-21页 |
2.4 荧光发生装置建立 | 第21-25页 |
2.4.1 K荧光初级注量能谱 | 第21-22页 |
2.4.2 K荧光散射比 | 第22-23页 |
2.4.3 K荧光辐射束半径 | 第23页 |
2.4.4 K荧光产额随辐射体厚度变化 | 第23-25页 |
2.5 辐射体表面荧光分布 | 第25-26页 |
2.6 辐射野分布 | 第26-27页 |
2.7 荧光纯度模拟 | 第27-29页 |
2.7.1 K荧光次级注量能谱 | 第28-29页 |
2.7.2 荧光纯度计算 | 第29页 |
2.8 MC屏蔽箱体设计 | 第29-31页 |
第3章 K荧光X射线辐射装置的建立 | 第31-47页 |
3.1 K荧光X射线辐射装置 | 第31-38页 |
3.1.1 初级辐射源 | 第32-33页 |
3.1.2 初级过滤器 | 第33-34页 |
3.1.3 初级光阑 | 第34页 |
3.1.4 次级光阑 | 第34-35页 |
3.1.5 荧光辐射体 | 第35-36页 |
3.1.6 次级过滤 | 第36-37页 |
3.1.7 收集器 | 第37-38页 |
3.2 荧光发生装置 | 第38-39页 |
3.3 导轨测量系统 | 第39-41页 |
3.4 装置监控系统 | 第41-42页 |
3.5 电源切换装置及报警系统 | 第42-44页 |
3.6 辐射体/次级过滤器制作 | 第44-47页 |
3.6.1 颗粒化合物的制作 | 第44-45页 |
3.6.2 金属的制作 | 第45-47页 |
第4章 荧光能谱的测量与计算 | 第47-59页 |
4.1 脉冲高度谱测量装置 | 第47-50页 |
4.1.1 屏蔽准直器 | 第47-48页 |
4.1.2 多道分析器及谱分析软件 | 第48-49页 |
4.1.3 低能高纯锗探测器 | 第49-50页 |
4.2 探测器能量刻度 | 第50-52页 |
4.3 探测器效率模拟 | 第52-55页 |
4.3.1 探测器CT成像 | 第52-53页 |
4.3.2 探测效率MC模拟 | 第53-55页 |
4.4 荧光能谱测量 | 第55-57页 |
4.5 ROOT双高斯拟合能谱 | 第57-59页 |
第5章 荧光辐射技术指标测量 | 第59-74页 |
5.1 矩阵电离室定中心点 | 第59-61页 |
5.2 Raysafe X2测量 | 第61-65页 |
5.2.1 Raysafe X2 | 第61-62页 |
5.2.2 辐射束均匀性测量 | 第62-64页 |
5.2.3 辐射束半径测量 | 第64-65页 |
5.3 GEM探测器测量光斑 | 第65-71页 |
5.3.1 GEM探测器结构 | 第65-67页 |
5.3.2 GEM探测器测试 | 第67-68页 |
5.3.3 GEM测量荧光 | 第68-71页 |
5.4 X光机输出对稳定性影响 | 第71-74页 |
结论 | 第74-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-78页 |
攻读学位期间取得学术成果 | 第78页 |