镁纳米孔的制备及原位透射电子显微学研究
摘要 | 第9-11页 |
Abstract | 第11-12页 |
引言 | 第13-15页 |
第一章 绪论 | 第15-34页 |
1.1 引言 | 第15-17页 |
1.2 透射电子显微学方法 | 第17-30页 |
1.2.1 透射电子显微学的发展历程 | 第17-19页 |
1.2.2 透射电子显微镜的构造及原理 | 第19-21页 |
1.2.3 选区电子衍射 | 第21-22页 |
1.2.4 高分辨透射电子显微学 | 第22-24页 |
1.2.5 电子能量损失谱 | 第24-27页 |
1.2.6 透射电子显微镜样品的制备 | 第27-30页 |
1.3 原位透射电子显微学方法 | 第30-34页 |
第二章 镁纳米孔的制备及表征 | 第34-47页 |
2.1 研究背景 | 第34-38页 |
2.2 实验结果和讨论 | 第38-46页 |
2.2.1 纳米孔的制备 | 第38-40页 |
2.2.2 纳米孔形状的表征 | 第40-43页 |
2.2.3 制备纳米孔的机制探讨 | 第43-46页 |
2.3 本章小结 | 第46-47页 |
第三章 镁纳米孔三维结构的研究 | 第47-61页 |
3.1 研究背景 | 第47-49页 |
3.2 结果和讨论 | 第49-59页 |
3.2.1 纳米孔能量过滤成像 | 第49-50页 |
3.2.2 纳米孔三维结构的理论预测 | 第50-51页 |
3.2.3 纳米孔三维结构的表征 | 第51-56页 |
3.2.4 纳米孔三维结构与直径、厚度的关系 | 第56-57页 |
3.2.5 纳米孔不同三维结构的可能形成过程 | 第57-59页 |
3.3 本章小结 | 第59-61页 |
第四章 镁纳米孔愈合过程的原位观测 | 第61-71页 |
4.1 研究背景 | 第61-63页 |
4.2 实验结果和讨论 | 第63-70页 |
4.2.1 纳米孔愈合过程的原位观测 | 第63-66页 |
4.2.2 纳米孔愈合过程的机制分析 | 第66-70页 |
4.3 本章小结 | 第70-71页 |
第五章 与孔形有关的原子扩散行为的原位观测 | 第71-80页 |
5.1 研究背景 | 第71-73页 |
5.2 实验结果和讨论 | 第73-79页 |
5.2.1 纳米孔的形变 | 第73-76页 |
5.2.2 与孔形有关的原子扩散行为的原位观测 | 第76-79页 |
5.3 本章小结 | 第79-80页 |
第六章 原子尺度下金属镁氧化过程的原位观测 | 第80-89页 |
6.1 研究背景 | 第80-81页 |
6.2 实验结果和讨论 | 第81-87页 |
6.2.1 金属镁氧化过程的原位观测 | 第81-85页 |
6.2.2 金属镁氧化机制的讨论 | 第85-87页 |
6.3 本章小结 | 第87-89页 |
第七章 总结和展望 | 第89-92页 |
7.1 主要研究成果 | 第89-90页 |
7.2 展望 | 第90-92页 |
参考文献 | 第92-107页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第107-108页 |
会议论文 | 第108-109页 |
致谢 | 第109-110页 |