| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 WO_3的化学性质及晶体结构 | 第9-10页 |
| 1.2 三氧化钨研究现状及应用前景 | 第10-11页 |
| 1.3 三氧化钨陶瓷靶材的制备 | 第11-18页 |
| 1.4 本研究的目的与主要内容 | 第18-20页 |
| 2 三氧化钨粉末球磨工艺的探索 | 第20-40页 |
| 2.1 实验条件 | 第20-22页 |
| 2.2 WO_3球磨粉末的表征方法 | 第22-23页 |
| 2.3 球磨结果与分析 | 第23-38页 |
| 2.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 3 三氧化钨粉末的压制 | 第40-46页 |
| 3.1 压制工艺 | 第40-41页 |
| 3.2 压制实验结果与分析 | 第41-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 4 三氧化钨靶材的制备 | 第46-59页 |
| 4.1 实验条件 | 第46-48页 |
| 4.2 烧结实验结果与分析 | 第48-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 5 全文总结与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 全文总结 | 第59-60页 |
| 5.2 展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |