摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 引言 | 第10-16页 |
1.1 选题依据及研究意义 | 第10-11页 |
1.1.1 选题来源 | 第10页 |
1.1.2 研究意义 | 第10-11页 |
1.2 研究现状 | 第11-14页 |
1.2.1 国内外微束微区 XRF 分析仪的发展现状 | 第11-13页 |
1.2.2 微区定量分析方法的概况 | 第13-14页 |
1.3 主要研究内容 | 第14页 |
1.4 关键技术问题 | 第14-16页 |
第2章 理论基础 | 第16-28页 |
2.1 X 射线荧光的产生和莫塞莱(Moseley)定律 | 第16-18页 |
2.2 定量分析基本公式 | 第18-20页 |
2.3 X 射线荧光强度的理论计算 | 第20-28页 |
2.3.1 一次荧光强度的计算 | 第20-23页 |
2.3.2 二次荧光强度计算 | 第23-25页 |
2.3.3 X 射线荧光相对强度理论计算 | 第25-28页 |
第3章 微束微区 X 荧光探针分析仪 | 第28-40页 |
3.1 微束微区 X 荧光探针分析仪的仪器原理 | 第28-29页 |
3.2 微束微区 X 荧光探针分析仪的组成 | 第29-40页 |
3.2.1 微束激发源系统 | 第29-35页 |
3.2.1.1 X 射线管 | 第29-31页 |
3.2.1.2 X 光透镜 | 第31-35页 |
3.2.2 X 射线测量系统 | 第35-38页 |
3.2.2.1 探测器 | 第35-37页 |
3.2.2.2 数字核信号采集器 | 第37-38页 |
3.2.3 CCD 相机定位装置和微动样品台 | 第38页 |
3.2.4 应用软件 | 第38-40页 |
第4章 XRF 探针的优化 | 第40-48页 |
4.1 初级射线角分布的研究 | 第40-44页 |
4.1.1 设计方案 | 第40-41页 |
4.1.2 实验结果及分析 | 第41-44页 |
4.2 微束 X 射线系统的优化 | 第44-48页 |
4.2.1 设计方案 | 第44-46页 |
4.2.2 方案的实现 | 第46-48页 |
第5章 仪器性能指标评价及测量结果 | 第48-60页 |
5.1 焦斑的测定 | 第48-52页 |
5.2 能量线性的测定 | 第52-53页 |
5.3 精确度的测定 | 第53-55页 |
5.4 不稳定度的测量 | 第55-56页 |
5.5 准确度的测量 | 第56-58页 |
5.6 显微成像系统的放大倍数的测定 | 第58-59页 |
5.7 谱漂的测定 | 第59-60页 |
第6章 仪器装置的标定 | 第60-63页 |
6.1 标定方程的建立 | 第60页 |
6.2 标准样品的选择 | 第60-61页 |
6.3 标定曲线的结果 | 第61-63页 |
结论 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-68页 |
攻读学位期间取得学术成果 | 第68页 |