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微束微区X荧光探针的优化与标定方法研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 引言第10-16页
    1.1 选题依据及研究意义第10-11页
        1.1.1 选题来源第10页
        1.1.2 研究意义第10-11页
    1.2 研究现状第11-14页
        1.2.1 国内外微束微区 XRF 分析仪的发展现状第11-13页
        1.2.2 微区定量分析方法的概况第13-14页
    1.3 主要研究内容第14页
    1.4 关键技术问题第14-16页
第2章 理论基础第16-28页
    2.1 X 射线荧光的产生和莫塞莱(Moseley)定律第16-18页
    2.2 定量分析基本公式第18-20页
    2.3 X 射线荧光强度的理论计算第20-28页
        2.3.1 一次荧光强度的计算第20-23页
        2.3.2 二次荧光强度计算第23-25页
        2.3.3 X 射线荧光相对强度理论计算第25-28页
第3章 微束微区 X 荧光探针分析仪第28-40页
    3.1 微束微区 X 荧光探针分析仪的仪器原理第28-29页
    3.2 微束微区 X 荧光探针分析仪的组成第29-40页
        3.2.1 微束激发源系统第29-35页
            3.2.1.1 X 射线管第29-31页
            3.2.1.2 X 光透镜第31-35页
        3.2.2 X 射线测量系统第35-38页
            3.2.2.1 探测器第35-37页
            3.2.2.2 数字核信号采集器第37-38页
        3.2.3 CCD 相机定位装置和微动样品台第38页
        3.2.4 应用软件第38-40页
第4章 XRF 探针的优化第40-48页
    4.1 初级射线角分布的研究第40-44页
        4.1.1 设计方案第40-41页
        4.1.2 实验结果及分析第41-44页
    4.2 微束 X 射线系统的优化第44-48页
        4.2.1 设计方案第44-46页
        4.2.2 方案的实现第46-48页
第5章 仪器性能指标评价及测量结果第48-60页
    5.1 焦斑的测定第48-52页
    5.2 能量线性的测定第52-53页
    5.3 精确度的测定第53-55页
    5.4 不稳定度的测量第55-56页
    5.5 准确度的测量第56-58页
    5.6 显微成像系统的放大倍数的测定第58-59页
    5.7 谱漂的测定第59-60页
第6章 仪器装置的标定第60-63页
    6.1 标定方程的建立第60页
    6.2 标准样品的选择第60-61页
    6.3 标定曲线的结果第61-63页
结论第63-64页
致谢第64-65页
参考文献第65-68页
攻读学位期间取得学术成果第68页

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