| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 课题背景 | 第8页 |
| 1.2 硬质薄膜 | 第8-9页 |
| 1.2.1 硬质薄膜的简介 | 第8-9页 |
| 1.2.2 硬质薄膜的分类 | 第9页 |
| 1.3 多弧离子镀技术概述 | 第9-13页 |
| 1.3.1 多弧离子镀的原理 | 第9-10页 |
| 1.3.2 多弧离子镀的特点 | 第10-11页 |
| 1.3.3 多弧离子镀的工艺参数 | 第11-12页 |
| 1.3.4 多弧离子镀技术的应用 | 第12-13页 |
| 1.3.5 多弧离子镀的发展 | 第13页 |
| 1.4 薄膜生长 | 第13-16页 |
| 1.4.1 薄膜的形核与生长 | 第13-15页 |
| 1.4.2 离子镀的成膜过程与薄膜结构 | 第15-16页 |
| 1.4.3 薄膜的择优取向 | 第16页 |
| 1.5 TiN和TiAlN硬质膜的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.6 选题意义及研究内容 | 第18-19页 |
| 1.6.1 选题意义 | 第18页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 试验材料及方法 | 第19-25页 |
| 2.1 试验材料 | 第19页 |
| 2.1.1 基体材料 | 第19页 |
| 2.1.2 基体材料的预处理 | 第19页 |
| 2.2 试验设备 | 第19-20页 |
| 2.3 薄膜的制备 | 第20-22页 |
| 2.4 性能测试仪器及方法 | 第22-25页 |
| 2.4.1 薄膜表面形貌、成分及组织结构的分析测试 | 第22-23页 |
| 2.4.2 薄膜性能的测试 | 第23-25页 |
| 第3章 多弧离子镀TiN薄膜的沉积工艺研究 | 第25-34页 |
| 3.1 氮氩比对TiN薄膜结构和性能的影响 | 第25-28页 |
| 3.1.1 氮氩比对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第25-26页 |
| 3.1.2 氮氩比对TiN薄膜厚度的影响 | 第26-28页 |
| 3.1.3 氮氩比对TiN薄膜显微硬度的影响 | 第28页 |
| 3.2 基体负偏压对TiN薄膜的影响 | 第28-32页 |
| 3.2.1 基体负偏压对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.2 基体负偏压对TiN薄膜厚度的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.3 基体负偏压对TiN薄膜显微硬度的影响 | 第31-32页 |
| 3.3 最佳制备工艺下TiN薄膜的物相及成分分析 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 多弧离子镀TiAlN薄膜的制备与耐腐蚀性能分析 | 第34-44页 |
| 4.1 氮氩比对TiAlN薄膜组织及性能的影响 | 第34-38页 |
| 4.1.1 氮氩比对TiAlN薄膜表面形貌的影响 | 第34-35页 |
| 4.1.2 氮氩比对TiAlN薄膜物相结构的影响 | 第35-36页 |
| 4.1.3 氮氩比对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第36-37页 |
| 4.1.4 氮氩比对TiAlN薄膜耐腐蚀性的影响 | 第37-38页 |
| 4.2 基体负偏压对TiAlN薄膜组织及性能的影响 | 第38-43页 |
| 4.2.1 基体负偏压对TiAlN薄膜表面形貌的影响 | 第38-40页 |
| 4.2.2 基体负偏压对TiAlN薄膜物相结构的影响 | 第40页 |
| 4.2.3 基体负偏压对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第40-42页 |
| 4.2.4 基体负偏压对TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第42-43页 |
| 4.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第5章 多弧离子镀TiAlN薄膜高温抗氧化性能研究 | 第44-51页 |
| 5.1 高温氧化后TiAlN薄膜的表面形貌及表面能谱成分分析 | 第44-48页 |
| 5.2 高温氧化后TiAlN薄膜的物相结构分析 | 第48-49页 |
| 5.3 高温氧化后TiAlN薄膜的硬度及重量分析 | 第49-50页 |
| 5.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第6章 结论 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第57页 |
