| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-36页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 NO_X控制技术简介 | 第12-15页 |
| 1.2.1 湿法脱硝 | 第12-13页 |
| 1.2.2 干法脱硝 | 第13-15页 |
| 1.3 NH_3-SCR技术研究现状 | 第15-31页 |
| 1.3.1 商业V_2O_5-WO_3(MoO_3)/TiO_2催化剂简介 | 第16-18页 |
| 1.3.2 贵金属催化剂 | 第18页 |
| 1.3.3 过渡金属氧化物（非贵金属）催化剂 | 第18-26页 |
| 1.3.4 分子筛催化剂 | 第26-29页 |
| 1.3.5 炭基催化剂 | 第29-31页 |
| 1.4 NH_3-SCR反应机理反应机理 | 第31-33页 |
| 1.4.1 钒基催化剂的NH_3-SCR反应机理 | 第31-32页 |
| 1.4.2 Mn基催化剂的NH_3-SCR反应机理 | 第32-33页 |
| 1.4.3 Ce基催化剂的NH_3-SCR反应机理 | 第33页 |
| 1.5 本课题的研究目的、意义和内容 | 第33-36页 |
| 1.5.1 研究目的和意义 | 第33-34页 |
| 1.5.2 研究的内容 | 第34-36页 |
| 第二章 实验部分 | 第36-40页 |
| 2.1 实验试剂与设备 | 第36-37页 |
| 2.1.1 实验中所涉及的化学试剂 | 第36-37页 |
| 2.2 催化剂的活性测试 | 第37-38页 |
| 2.3 催化剂表征 | 第38-40页 |
| 2.3.1 比表面积、孔容、孔径测试 | 第38页 |
| 2.3.2 X射线粉末衍射仪(XRD) | 第38页 |
| 2.3.3 透射电镜(TEM) | 第38页 |
| 2.3.4 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第38-39页 |
| 2.3.5 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第39页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第39页 |
| 2.3.7 热重分析(TG) | 第39页 |
| 2.3.8 红外表征（FT-IR） | 第39-40页 |
| 第三章 MnWO_x/TiO_2催化剂的制备及NH_3-SCR性能的研究 | 第40-60页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 催化剂的制备 | 第40-41页 |
| 3.3 催化剂表征 | 第41-51页 |
| 3.3.1 体相催化剂和负载型催化剂的织构 | 第41-43页 |
| 3.3.2 体相和负载型催化剂的XRD | 第43-44页 |
| 3.3.3 共沉淀和浸渍法制备的具有MnWO4晶相结构催化剂XRD图 | 第44-45页 |
| 3.3.4 H_2-TPR | 第45-47页 |
| 3.3.5 TEM分析 | 第47-48页 |
| 3.3.6 XPS分析 | 第48-51页 |
| 3.4 催化剂活性评价 | 第51-56页 |
| 3.4.1 体相催化剂活性和选择性评价 | 第51-52页 |
| 3.4.2 负载型催化剂的活性和选择性评价 | 第52-55页 |
| 3.4.3 不同制备方法的催化剂活性和N_2选择性图 | 第55-56页 |
| 3.5 催化剂的抗水抗硫性能 | 第56-58页 |
| 3.6 本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 CeWTiO_x催化剂的制备及活性与抗硫性能的研究 | 第60-85页 |
| 4.1 引言 | 第60-61页 |
| 4.2 催化剂制备 | 第61页 |
| 4.3 催化剂活性评价 | 第61-66页 |
| 4.3.1 不同CeO_2负载量催化剂活性 | 第61-62页 |
| 4.3.2 不同WO_3负载量催化剂活性 | 第62-63页 |
| 4.3.3 Ce_40TiO_x、W_10TiO_x、CeWO_x及Ce_40W_10TiO_x活性 | 第63-64页 |
| 4.3.4 NO和NH_3的氧化 | 第64-65页 |
| 4.3.5 不同催化剂制备方法对活性影响的比较 | 第65-66页 |
| 4.4 催化剂表征 | 第66-77页 |
| 4.4.1 不同CeO_2、WO_3负载量的CeaWb TiO_x催化剂织构 | 第66-68页 |
| 4.4.2 不同CeO_2、WO_3负载量的CeaWb TiO_x催化剂XRD | 第68-70页 |
| 4.4.3 体相和负载催化剂XRD及织构 | 第70-71页 |
| 4.4.4 H_2-TPR表征 | 第71-72页 |
| 4.4.5 XPS | 第72-75页 |
| 4.4.6 吡啶红外（Pyridine-IR） | 第75-76页 |
| 4.4.7 NH_3-TPD | 第76-77页 |
| 4.5 催化剂抗H_2O、SO_2性能 | 第77-84页 |
| 4.5.1 原位抗水抗硫测试 | 第77-78页 |
| 4.5.2 抗水抗硫稳定性测试 | 第78-80页 |
| 4.5.3 抗硫前后比表面积、孔结构 | 第80-82页 |
| 4.5.4 抗硫前后催化剂性质比较 | 第82页 |
| 4.5.5 抗硫后催化剂TG表征 | 第82-84页 |
| 4.6 本章小结 | 第84-85页 |
| 第五章 结论与展望 | 第85-88页 |
| 5.1 结论 | 第85-86页 |
| 5.2 展望 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
| 研究生期间学术成果 | 第104页 |
