告警探测系统中日盲紫外薄膜的关键技术研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 研究目的及意义 | 第11-14页 |
| 1.3 日盲紫外系统研制现状 | 第14-18页 |
| 1.4 紫外波段薄膜研究现状 | 第18-21页 |
| 1.5 本论文主要研究内容 | 第21-22页 |
| 1.6 小结 | 第22-23页 |
| 第二章 光学薄膜的基础理论 | 第23-38页 |
| 2.1 单层膜与多层膜的矩阵计算方法 | 第23-27页 |
| 2.2 对称膜系基础理论 | 第27-29页 |
| 2.3 增透膜基础理论 | 第29-31页 |
| 2.4 F-P带通滤光膜基础理论 | 第31-33页 |
| 2.5 诱导透射滤光膜基础理论 | 第33-37页 |
| 2.6 小结 | 第37-38页 |
| 第三章 紫外薄膜材料特性研究 | 第38-52页 |
| 3.1 基底材料选择 | 第38-40页 |
| 3.2 介质材料选择 | 第40-43页 |
| 3.3 金属材料选择 | 第43-44页 |
| 3.4 薄膜材料的光学常数计算 | 第44-51页 |
| 3.4.1 材料折射率的计算 | 第44-48页 |
| 3.4.2 材料吸收理论分析 | 第48-50页 |
| 3.4.3 不同膜系的吸收特性研究 | 第50页 |
| 3.4.4 材料散射分析 | 第50-51页 |
| 3.5 小结 | 第51-52页 |
| 第四章 日盲紫外薄膜的膜系设计 | 第52-75页 |
| 4.1 日盲紫外膜系的设计方法分析 | 第52-54页 |
| 4.2 光电倍增管型探测系统的膜系设计 | 第54-64页 |
| 4.2.1 紫外干涉截止滤光膜的设计 | 第54-60页 |
| 4.2.2 紫外增透膜的设计 | 第60-64页 |
| 4.3 CCD型探测系统的膜系设计 | 第64-74页 |
| 4.3.1 紫外F-P带通滤光膜的设计 | 第65-69页 |
| 4.3.2 紫外诱导透射滤光膜的设计 | 第69-74页 |
| 4.4 小结 | 第74-75页 |
| 第五章 薄膜沉积工艺技术研究 | 第75-98页 |
| 5.1 工艺参数研究 | 第75-81页 |
| 5.1.1 真空度对薄膜性能影响 | 第75-76页 |
| 5.1.2 蒸发速率研究 | 第76-78页 |
| 5.1.3 烘烤温度研究 | 第78-81页 |
| 5.2 膜厚均匀性控制技术研究 | 第81-86页 |
| 5.3 膜层致密性研究 | 第86-90页 |
| 5.4 金属膜厚度控制方法的研究 | 第90-95页 |
| 5.4.1 光电效应极值监控法 | 第91页 |
| 5.4.2 石英晶体膜厚监控法 | 第91-95页 |
| 5.5 基片表面洁净方法研究 | 第95-97页 |
| 5.6 小结 | 第97-98页 |
| 第六章 误差分析与工艺优化技术研究 | 第98-113页 |
| 6.1 干涉截止滤光膜厚度的精确控制 | 第98-100页 |
| 6.2 蒸发温度影响因素的分析 | 第100-102页 |
| 6.3 离子源辅助沉积参数优化分析 | 第102-103页 |
| 6.4 F-P带通滤光膜厚度控制方法的改进 | 第103-105页 |
| 6.5 工艺流程的制定 | 第105-106页 |
| 6.6 膜层质量和光谱特性测试 | 第106-111页 |
| 6.7 小结 | 第111-113页 |
| 第七章 结论与展望 | 第113-115页 |
| 7.1 论文主要工作 | 第113-114页 |
| 7.2 论文创新点 | 第114页 |
| 7.3 存在的问题和后期工作展望 | 第114-115页 |
| 致谢 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-121页 |
| 攻读博士学位期间的学术成果 | 第121页 |
