| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-44页 |
| 1.1 光场调控概述 | 第12-21页 |
| 1.1.1 结构光场 | 第12-19页 |
| 1.1.2 光场退偏 | 第19-21页 |
| 1.2 液晶光控取向技术 | 第21-29页 |
| 1.2.1 液晶简介 | 第22-24页 |
| 1.2.2 光控取向技术简介 | 第24-27页 |
| 1.2.3 基于偶氮染料SD1的光控取向技术 | 第27-29页 |
| 1.3 基于数字微镜器件曝光系统 | 第29-32页 |
| 1.4 论文研究目的及内容 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-44页 |
| 第二章 涡旋光的产生与调控 | 第44-64页 |
| 2.1 涡旋光产生技术 | 第44-50页 |
| 2.2 基于液晶光控取向技术实现涡旋光的产生与调控 | 第50-60页 |
| 2.2.1 液晶叉形光栅的设计、制备与表征 | 第51-55页 |
| 2.2.2 液晶叉形光栅的测试 | 第55-57页 |
| 2.2.3 涡旋光的产生与调控 | 第57-60页 |
| 2.3 本章小结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第三章 艾里光的产生与调控 | 第64-86页 |
| 3.1 艾里光产生技术 | 第64-72页 |
| 3.2 基于液晶光控取向技术实现艾里光的产生与调控 | 第72-82页 |
| 3.2.1 偏振液晶艾里模板的设计与制备 | 第73-77页 |
| 3.2.2 高强度偏振可控艾里光的产生与调控 | 第77-82页 |
| 3.2.3 自加速和无衍射性质的验证 | 第82页 |
| 3.3 本章小结 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-86页 |
| 第四章 涡旋艾里光的产生与调控 | 第86-102页 |
| 4.1 涡旋艾里光简介 | 第86-90页 |
| 4.2 涡旋艾里光的产生与调控 | 第90-98页 |
| 4.2.1 不同模式涡旋艾里光的设计与产生 | 第90-95页 |
| 4.2.2 类无衍射及自愈涡旋光的验证 | 第95-97页 |
| 4.2.3 横向自加速涡旋光的验证 | 第97-98页 |
| 4.3 本章小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-102页 |
| 第五章 光场的退偏调控 | 第102-118页 |
| 5.1 光场退偏技术概述 | 第102-107页 |
| 5.1.1 时域退偏 | 第102-105页 |
| 5.1.2 频域退偏 | 第105页 |
| 5.1.3 空域退偏 | 第105-107页 |
| 5.2 基于液晶光控取向技术实现偏振光的退偏 | 第107-115页 |
| 5.2.1 液晶退偏器的设计与制备 | 第107-110页 |
| 5.2.2 液晶退偏器性能的测试 | 第110-115页 |
| 5.3 本章小结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-118页 |
| 第六章 总结与展望 | 第118-122页 |
| 6.1 总结 | 第118-120页 |
| 6.2 展望 | 第120-122页 |
| 攻读博士期间的学术成果 | 第122-125页 |
| 致谢 | 第125-127页 |