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含偶氮聚合物膜表面皱纹的光擦除与光调制研究

摘要第4-6页
abstract第6-8页
第一章 绪论第12-39页
    1.1 表面微纳结构化概述第12-19页
        1.1.1 光刻技术第14-15页
        1.1.2 纳米压印技术第15-16页
        1.1.3 微接触印刷技术第16-17页
        1.1.4 嵌段聚合物自组装第17-19页
    1.2 表面起皱概述第19-27页
        1.2.1 表面起皱机理第19-21页
        1.2.2 膜/基体系的构筑第21-24页
        1.2.3 表面起皱诱导方式第24-27页
    1.3 皱纹体系的分类第27-28页
        1.3.1 双层膜体系第27页
        1.3.2 多层膜体系第27-28页
    1.4 皱纹图案的调控第28-34页
        1.4.1 图案化的基底或表层膜第29-31页
        1.4.2 模板诱导第31-32页
        1.4.3 分步起皱第32-33页
        1.4.4 皱纹体系中引入刺激响应性组分第33-34页
    1.5 表面起皱的应用第34-37页
        1.5.1 材料物性表征第34页
        1.5.2 作为结构化模板第34-35页
        1.5.3 构筑柔性电子器件第35-36页
        1.5.4 光学方面的应用第36-37页
    1.6 研究思路及创新之处第37-39页
第二章 含偶氮聚合物膜的双层膜/基系统:表面皱纹的光擦除与光调制研究第39-73页
    2.1 实验部分第40-43页
        2.1.1 实验所需药品第40页
        2.1.2 实验仪器第40-41页
        2.1.3 聚分散橙 3(PDO3)的合成第41页
        2.1.4 PDMS弹性基底的制备第41页
        2.1.5 PDMS/PDO3双层膜的制备第41-42页
        2.1.6 热诱导PDMS/PDO3表面起皱第42页
        2.1.7 PDMS/PDO3皱纹样品的可见光曝光处理第42页
        2.1.8 表征手段第42-43页
    2.2 结果与讨论第43-71页
        2.2.1 PDMS/PDO3双层膜皱纹样品的制备第44-45页
        2.2.2 光调控PDMS/PDO3表面皱纹第45-51页
        2.2.3 PDMS/PDO3表面皱纹选区曝光第51-60页
        2.2.4 光消皱及光控图案化的机理探讨第60-67页
        2.2.5 理论模拟第67-71页
    2.3 信息存储方面的应用第71-72页
    2.4 本章小结第72-73页
第三章 偶氮聚合物膜为中间层的多层膜/基系统:表面皱纹的光调制研究第73-95页
    3.1 实验部分第74-76页
        3.1.1 实验所需药品第74页
        3.1.2 含PDO3多层膜/基底皱纹体系的制备第74-76页
        3.1.3 热诱导表面起皱第76页
        3.1.4 多层膜皱纹体系可见光曝光处理第76页
    3.2 结果与讨论第76-91页
        3.2.1 PDMS/PDO3/PS体系热诱导起皱第77-78页
        3.2.2 PDMS/PDO3/PS体系热诱导起皱模式第78-81页
        3.2.3 多层膜体系表面皱纹铜网选区曝光第81-84页
        3.2.4 体系表面皱纹演变机理分析第84-88页
        3.2.5 高级皱纹图案的形貌调控第88-91页
    3.3 光响应性多层膜体系的拓展及潜在应用第91-94页
        3.3.1 多层膜体系种类的扩展第91-92页
        3.3.2 不同多层膜体系表面皱纹形貌调控第92-94页
    3.4 本章小结第94-95页
第四章 偶氮聚合物膜为顶层的多层膜/基系统:表面皱纹的光擦除与光调制研究第95-119页
    4.1 实验部分第95-96页
        4.1.1 PDMS/PS/PDO3多层膜体系的制备第96页
        4.1.2 PDMS/SiOx/PDO3多层膜体系的制备第96页
    4.2 结果与讨论第96-118页
        4.2.1 PDMS/PS/PDO3多层膜体系第97-111页
        4.2.2 PDMS/SiOx/PDO3多层膜体系第111-117页
        4.2.3 多层膜体系不同皱纹演变规律机理分析第117-118页
    4.3 本章小结第118-119页
第五章 结论与展望第119-121页
参考文献第121-130页
发表论文和参加科研情况说明第130-131页
致谢第131-132页

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