摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-39页 |
1.1 表面微纳结构化概述 | 第12-19页 |
1.1.1 光刻技术 | 第14-15页 |
1.1.2 纳米压印技术 | 第15-16页 |
1.1.3 微接触印刷技术 | 第16-17页 |
1.1.4 嵌段聚合物自组装 | 第17-19页 |
1.2 表面起皱概述 | 第19-27页 |
1.2.1 表面起皱机理 | 第19-21页 |
1.2.2 膜/基体系的构筑 | 第21-24页 |
1.2.3 表面起皱诱导方式 | 第24-27页 |
1.3 皱纹体系的分类 | 第27-28页 |
1.3.1 双层膜体系 | 第27页 |
1.3.2 多层膜体系 | 第27-28页 |
1.4 皱纹图案的调控 | 第28-34页 |
1.4.1 图案化的基底或表层膜 | 第29-31页 |
1.4.2 模板诱导 | 第31-32页 |
1.4.3 分步起皱 | 第32-33页 |
1.4.4 皱纹体系中引入刺激响应性组分 | 第33-34页 |
1.5 表面起皱的应用 | 第34-37页 |
1.5.1 材料物性表征 | 第34页 |
1.5.2 作为结构化模板 | 第34-35页 |
1.5.3 构筑柔性电子器件 | 第35-36页 |
1.5.4 光学方面的应用 | 第36-37页 |
1.6 研究思路及创新之处 | 第37-39页 |
第二章 含偶氮聚合物膜的双层膜/基系统:表面皱纹的光擦除与光调制研究 | 第39-73页 |
2.1 实验部分 | 第40-43页 |
2.1.1 实验所需药品 | 第40页 |
2.1.2 实验仪器 | 第40-41页 |
2.1.3 聚分散橙 3(PDO3)的合成 | 第41页 |
2.1.4 PDMS弹性基底的制备 | 第41页 |
2.1.5 PDMS/PDO3双层膜的制备 | 第41-42页 |
2.1.6 热诱导PDMS/PDO3表面起皱 | 第42页 |
2.1.7 PDMS/PDO3皱纹样品的可见光曝光处理 | 第42页 |
2.1.8 表征手段 | 第42-43页 |
2.2 结果与讨论 | 第43-71页 |
2.2.1 PDMS/PDO3双层膜皱纹样品的制备 | 第44-45页 |
2.2.2 光调控PDMS/PDO3表面皱纹 | 第45-51页 |
2.2.3 PDMS/PDO3表面皱纹选区曝光 | 第51-60页 |
2.2.4 光消皱及光控图案化的机理探讨 | 第60-67页 |
2.2.5 理论模拟 | 第67-71页 |
2.3 信息存储方面的应用 | 第71-72页 |
2.4 本章小结 | 第72-73页 |
第三章 偶氮聚合物膜为中间层的多层膜/基系统:表面皱纹的光调制研究 | 第73-95页 |
3.1 实验部分 | 第74-76页 |
3.1.1 实验所需药品 | 第74页 |
3.1.2 含PDO3多层膜/基底皱纹体系的制备 | 第74-76页 |
3.1.3 热诱导表面起皱 | 第76页 |
3.1.4 多层膜皱纹体系可见光曝光处理 | 第76页 |
3.2 结果与讨论 | 第76-91页 |
3.2.1 PDMS/PDO3/PS体系热诱导起皱 | 第77-78页 |
3.2.2 PDMS/PDO3/PS体系热诱导起皱模式 | 第78-81页 |
3.2.3 多层膜体系表面皱纹铜网选区曝光 | 第81-84页 |
3.2.4 体系表面皱纹演变机理分析 | 第84-88页 |
3.2.5 高级皱纹图案的形貌调控 | 第88-91页 |
3.3 光响应性多层膜体系的拓展及潜在应用 | 第91-94页 |
3.3.1 多层膜体系种类的扩展 | 第91-92页 |
3.3.2 不同多层膜体系表面皱纹形貌调控 | 第92-94页 |
3.4 本章小结 | 第94-95页 |
第四章 偶氮聚合物膜为顶层的多层膜/基系统:表面皱纹的光擦除与光调制研究 | 第95-119页 |
4.1 实验部分 | 第95-96页 |
4.1.1 PDMS/PS/PDO3多层膜体系的制备 | 第96页 |
4.1.2 PDMS/SiOx/PDO3多层膜体系的制备 | 第96页 |
4.2 结果与讨论 | 第96-118页 |
4.2.1 PDMS/PS/PDO3多层膜体系 | 第97-111页 |
4.2.2 PDMS/SiOx/PDO3多层膜体系 | 第111-117页 |
4.2.3 多层膜体系不同皱纹演变规律机理分析 | 第117-118页 |
4.3 本章小结 | 第118-119页 |
第五章 结论与展望 | 第119-121页 |
参考文献 | 第121-130页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第130-131页 |
致谢 | 第131-132页 |