摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第1章 绪论 | 第9-28页 |
·硅烷偶联剂概述 | 第9-25页 |
·硅烷偶联剂的结构 | 第10页 |
·硅烷偶联剂的合成方法 | 第10-12页 |
·硅烷偶联剂的作用机理 | 第12-13页 |
·硅烷偶联剂的应用 | 第13页 |
·硅烷偶联剂的选择 | 第13-14页 |
·硅烷偶联剂的发展现状 | 第14-15页 |
·耐高温硅烷偶联剂的研究现状 | 第15-16页 |
·硅烷偶联剂预处理金属 | 第16-25页 |
·预处理金属的硅烷偶联剂种类 | 第17-18页 |
·硅烷偶联剂预处理金属的过程 | 第18-20页 |
·预处理金属的防腐效果表征方法 | 第20-25页 |
·酰亚胺环概述 | 第25页 |
·铜箔概述 | 第25-26页 |
·课题的提出 | 第26-28页 |
第2章 苯酐改性硅烷偶联剂的合成及性能研究 | 第28-39页 |
·前言 | 第28页 |
·实验部分 | 第28-37页 |
·苯酐改性硅烷偶联剂的合成 | 第29-31页 |
·含铂催化剂D的合成 | 第29-30页 |
·酰亚胺化反应合成化合物A1 | 第30页 |
·硅氢加成反应合成化合物A2 | 第30-31页 |
·结果与讨论 | 第31-37页 |
·化学结构的确定 | 第31页 |
·苯酐改性硅烷偶联剂的热性能分析 | 第31-33页 |
·酰亚胺环改性硅烷的一步法与两步法合成讨论 | 第33-36页 |
·酰亚胺化反应讨论 | 第36-37页 |
·本章小结 | 第37-39页 |
第3章 联苯四酸二酐改性硅烷偶联剂的合成及性能研究 | 第39-46页 |
·前言 | 第39页 |
·实验部分 | 第39-45页 |
·联苯四酸二酐改性硅烷偶联剂的合成 | 第40-41页 |
·含铂催化剂D的合成 | 第40-41页 |
·酰亚胺化反应合成化合物B1 | 第41页 |
·硅氢加成反应合成化合物B2 | 第41页 |
·结果与讨论 | 第41-45页 |
·化学结构的确定 | 第42页 |
·联苯四酸二酐改性硅烷偶联剂的热性能分析 | 第42-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第4章 降冰片烯单酐改性硅烷偶联剂的合成及性能研究 | 第46-57页 |
·前言 | 第46页 |
·实验部分 | 第46-55页 |
·降冰片烯单酐改性硅烷偶联剂的合成 | 第47-49页 |
·含铂催化剂D的合成 | 第48页 |
·酰亚胺化反应合成化合物C1 | 第48页 |
·硅氢加成反应合成化合物C2 | 第48-49页 |
·结果与讨论 | 第49-55页 |
·化学结构的确定 | 第49页 |
·降冰片烯单酐改性硅烷的热性能分析 | 第49-52页 |
·脂肪族与芳香族环酐的酰亚胺化反应讨论 | 第52-55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
第5章 硅烷偶联剂预处理铜箔 | 第57-75页 |
·前言 | 第57页 |
·实验部分 | 第57-73页 |
·硅烷偶联剂的水解工艺研究 | 第58-65页 |
·理论基础 | 第58-60页 |
·硅烷偶联剂水解工艺的选择 | 第60-65页 |
·硅烷膜的制备 | 第65-67页 |
·铜箔的清洗 | 第65页 |
·浸渍方法 | 第65-66页 |
·固化方法 | 第66-67页 |
·硅烷膜的抗腐蚀性检测 | 第67-73页 |
·化学浸泡实验 | 第67-70页 |
·电化学阻抗光谱 | 第70-73页 |
·本章小结 | 第73-75页 |
第6章 结论与展望 | 第75-77页 |
·结论 | 第75页 |
·进一步工作的方向 | 第75-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-85页 |
附录 | 第85-92页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第92页 |