| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 研究背景及目的和意义 | 第12-14页 |
| 1.1.1 研究背景 | 第12-13页 |
| 1.1.2 研究目的和意义 | 第13-14页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第14-19页 |
| 1.2.1 平面源的制备方法 | 第15-18页 |
| 1.2.2 磷屏成像方法 | 第18-19页 |
| 1.3 研究内容与方法 | 第19-22页 |
| 1.3.1 研究方法 | 第19-21页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 磷屏成像的性能测试及其在平面源评价中的应用 | 第22-36页 |
| 2.1 磷屏成像原理与仪器 | 第22-24页 |
| 2.1.1 磷屏成像原理 | 第22-23页 |
| 2.1.2 磷屏成像仪 | 第23页 |
| 2.1.3 仪器操作与磷屏成像过程 | 第23-24页 |
| 2.2 磷屏成像系统特性研究 | 第24-31页 |
| 2.2.1 磷屏成像的重复性 | 第24-26页 |
| 2.2.2 时间与活度线性 | 第26-29页 |
| 2.2.3 响应的一致性 | 第29-31页 |
| 2.3 大面积平面源均匀性评价方法 | 第31-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-36页 |
| 第3章 α平面源的电沉积方法研究 | 第36-48页 |
| 3.1 电沉积法原理 | 第36-38页 |
| 3.2 实验设备及试剂 | 第38-40页 |
| 3.2.1 实验设备 | 第38-39页 |
| 3.2.2 试剂 | 第39-40页 |
| 3.3 实验条件对面源的影响 | 第40-47页 |
| 3.3.1 不锈钢片清洁程度与有机物残留对面源的影响 | 第40-42页 |
| 3.3.2 阴阳极距离对面源的影响 | 第42-44页 |
| 3.3.3 铀溶液加入次数对面源的影响 | 第44-46页 |
| 3.3.4 铀物质的量对面源的影响 | 第46-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 β平面源的氧化-填充方法研究 | 第48-58页 |
| 4.1 实验原理 | 第48页 |
| 4.2 实验装置、试剂 | 第48-49页 |
| 4.3 实验步骤 | 第49页 |
| 4.4 计算化学沉积效率 | 第49-50页 |
| 4.5 面源的检测 | 第50-55页 |
| 4.5.1 表观检测 | 第50页 |
| 4.5.2 擦拭检测 | 第50-51页 |
| 4.5.3 显微镜检测面源表面微观结构 | 第51页 |
| 4.5.4 磷屏检测 | 第51-55页 |
| 4.6 本章小结 | 第55-58页 |
| 第5章 总结与展望 | 第58-62页 |
| 5.1 总结 | 第58-59页 |
| 5.2 展望 | 第59-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 攻读硕士期间的科研成果 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |