复杂目标的近场电磁散射及RCS外推研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-20页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第12-13页 |
| 1.2 电磁散射近远场计算方法 | 第13-15页 |
| 1.3 散射近场及RCS外推研究的发展现状 | 第15-19页 |
| 1.4 论文主要内容 | 第19-20页 |
| 2 导体目标电磁散射的高频建模与仿真 | 第20-58页 |
| 2.1 目标的散射场计算方法 | 第20-30页 |
| 2.1.1 广义雷达散射截面的定义 | 第20-22页 |
| 2.1.2 物理光学近似解 | 第22-25页 |
| 2.1.3 金属平板面元的PO解 | 第25-30页 |
| 2.2 多次散射 | 第30-32页 |
| 2.3 棱边的物理绕射解 | 第32-34页 |
| 2.4 复杂目标的建模及高频RCS计算 | 第34-46页 |
| 2.4.1 复杂目标的几何模型 | 第34-37页 |
| 2.4.2 复杂目标的高频建模 | 第37-39页 |
| 2.4.3 射线追踪算法 | 第39-46页 |
| 2.5 典型导体目标电磁散射仿真 | 第46-57页 |
| 2.5.1 导体球的仿真 | 第46-49页 |
| 2.5.2 矩形平板的仿真 | 第49-52页 |
| 2.5.3 圆形平板的仿真 | 第52-54页 |
| 2.5.4 角反射器的仿真 | 第54-57页 |
| 2.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 3 导体目标近场散射及RCS外推 | 第58-79页 |
| 3.1 散射近场与远场的划分 | 第58-59页 |
| 3.2 基于合成孔径成像的RCS外推算法 | 第59-64页 |
| 3.2.1 基本原理 | 第59-60页 |
| 3.2.2 Huygens算法 | 第60-61页 |
| 3.2.3 Hankel算法 | 第61-63页 |
| 3.2.4 CNFFFT外推算法 | 第63-64页 |
| 3.3 金属球定标法计算外推系数 | 第64-67页 |
| 3.3.1 外推系数的推导 | 第64-66页 |
| 3.3.2 金属球定标法 | 第66-67页 |
| 3.4 RCS外推算法的实现与仿真 | 第67-77页 |
| 3.4.1 典型导体目标的RCS外推 | 第67-72页 |
| 3.4.2 复杂导体目标的RCS外推 | 第72-77页 |
| 3.5 本章小结 | 第77-79页 |
| 4 涂覆目标近场散射及RCS外推 | 第79-106页 |
| 4.1 涂覆多层介质面元的散射 | 第79-83页 |
| 4.2 涂覆介质目标的近场散射及RCS外推 | 第83-88页 |
| 4.2.1 涂覆多层介质的平板 | 第83-85页 |
| 4.2.2 部分涂覆多层介质的二面角 | 第85-88页 |
| 4.3 超介质吸波材料的设计与分析 | 第88-96页 |
| 4.3.1 单频吸波材料 | 第91-95页 |
| 4.3.2 多频吸波材料 | 第95-96页 |
| 4.4 超介质吸波材料的等效介质分析方法 | 第96-99页 |
| 4.5 涂覆超介质吸波材料目标的电磁散射计算 | 第99-105页 |
| 4.5.1 基于反射系数的算法 | 第100-102页 |
| 4.5.2 基于等效介质参数的算法 | 第102-105页 |
| 4.6 本章小结 | 第105-106页 |
| 5 复杂目标电磁散射及RCS外推系统的设计与应用 | 第106-120页 |
| 5.1 系统研制背景 | 第106-107页 |
| 5.2 系统设计概要 | 第107-110页 |
| 5.2.1 系统需求分析 | 第107-108页 |
| 5.2.2 系统总体结构 | 第108-109页 |
| 5.2.3 系统开发工具 | 第109-110页 |
| 5.3 系统功能介绍 | 第110-118页 |
| 5.3.1 人机交互界面 | 第110-112页 |
| 5.3.2 目标几何建模 | 第112-114页 |
| 5.3.3 形体材质定义 | 第114-115页 |
| 5.3.4 电磁散射特性计算 | 第115-116页 |
| 5.3.5 结果显示与输出 | 第116-118页 |
| 5.4 系统应用实例 | 第118-119页 |
| 5.5 本章小结 | 第119-120页 |
| 6 总结与展望 | 第120-123页 |
| 参考文献 | 第123-130页 |
| 在校期间发表的论文、科研成果等 | 第130-132页 |
| 致谢 | 第132页 |
