| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 1 绪论 | 第11-17页 |
| ·研究背景 | 第11-14页 |
| ·质谱分析法 | 第11-13页 |
| ·等离子体技术 | 第13-14页 |
| ·质谱离子化技术的研究现状 | 第14页 |
| ·本文的研究思路及主要内容 | 第14-17页 |
| 2 质谱离子化技术的进展 | 第17-29页 |
| ·传统的离子化技术 | 第17-19页 |
| ·常压的离子化技术 | 第19-27页 |
| ·与ESI相关的常压离子化技术 | 第20-24页 |
| ·解析电喷雾离子化(DESI) | 第20-21页 |
| ·电喷雾辅助激光解吸离子化(ELDI) | 第21-22页 |
| ·基质辅助激光解吸电喷雾离子化(MALDESI) | 第22页 |
| ·激光烧蚀电喷雾离子化(LAESI) | 第22页 |
| ·红外激光辅助解吸电喷雾离子化(IR-LADESI) | 第22-23页 |
| ·电喷雾萃取离子化(EESI) | 第23页 |
| ·解吸声速喷雾离子化(DeSSI) | 第23-24页 |
| ·与APCI相关的常压离子化技术 | 第24-27页 |
| ·表面解吸常压化学离子化(SDAPCI) | 第24页 |
| ·常压固体分析探针(ASAP)离子化 | 第24-25页 |
| ·介质阻挡放电离子化(DBDI) | 第25-26页 |
| ·直接实时离子化(DART) | 第26页 |
| ·低温等离子体探针离子化(LTP) | 第26-27页 |
| ·小结 | 第27-29页 |
| 3 微波等离子体炬离子化源的研制 | 第29-39页 |
| ·微波等离子体炬离子化源的原理 | 第29-31页 |
| ·微波等离子体炬离子化源的结构 | 第31-37页 |
| ·微波等离子体炬装置 | 第31-32页 |
| ·全固态微波源 | 第32-37页 |
| ·智能控制系统 | 第37页 |
| ·小结 | 第37-39页 |
| 4 基于Modbus协议的智能控制系统的设计 | 第39-55页 |
| ·控制系统总体设计方案 | 第39-40页 |
| ·控制系统的硬件设计 | 第40-43页 |
| ·硬件需求分析 | 第40页 |
| ·硬件平台选择 | 第40页 |
| ·硬件的组态 | 第40-43页 |
| ·基于MODBUS协议的上位机软件的设计 | 第43-54页 |
| ·Modbus协议的介绍 | 第43-45页 |
| ·上位机与微处理器的串口通信 | 第45-47页 |
| ·数据的接收和发送子程序 | 第47-53页 |
| ·上位机数据发送子程序设计 | 第49-51页 |
| ·上位机数据接收子程序设计 | 第51-53页 |
| ·上位机界面设计 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 5 微波等离子体炬离子化源质谱法的应用基础研究 | 第55-72页 |
| ·微波等离子体炬离子化源实验条件的优化 | 第55-61页 |
| ·质谱反吹气的流速的选择 | 第55-57页 |
| ·微波等离子体炬炬焰距离毛细管入口处的距离和角度 | 第57-59页 |
| ·Endplate和capillary entrance的电压 | 第59-60页 |
| ·工作气体的流速,微波源的输出功率 | 第60-61页 |
| ·大气背景成分分析 | 第61-62页 |
| ·基于微波等离子体炬质谱法的射击残留物的检测 | 第62-71页 |
| ·概述 | 第62-63页 |
| ·实验部分 | 第63-71页 |
| ·仪器与样品 | 第63页 |
| ·金属射击残留物的提取 | 第63-64页 |
| ·实验原理与装置 | 第64-65页 |
| ·实验条件 | 第65页 |
| ·实验过程与讨论 | 第65-70页 |
| ·实验结果 | 第70-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 6 总结与展望 | 第72-74页 |
| ·工作总结 | 第72页 |
| ·工作展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 作者简介 | 第81页 |
| 作者在攻读硕士学位期间的研究成果 | 第81页 |