高频脉冲电场循环水捕垢机理探究及系统开发
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| ·课题研究的背景 | 第9-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-20页 |
| ·化学法 | 第11-15页 |
| ·物理方法 | 第15-20页 |
| ·研究内容 | 第20-22页 |
| 2 高频脉冲电场除垢机理探究 | 第22-34页 |
| ·水垢形成机理 | 第22-25页 |
| ·晶核的形成 | 第22-23页 |
| ·晶核生长 | 第23-24页 |
| ·晶核聚集 | 第24-25页 |
| ·水分子的结构及氢键 | 第25页 |
| ·高频电场对溶液中各粒子的影响 | 第25-33页 |
| ·电场对单个水分子的影响 | 第25-27页 |
| ·电场对水分子团簇结构的影响 | 第27-28页 |
| ·电场对溶液中离子的影响 | 第28-29页 |
| ·电场对水滴的影响 | 第29-32页 |
| ·电场对碳酸钙晶体的作用 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 3 高频脉冲电场捕垢系统的开发及电场模拟分析 | 第34-49页 |
| ·高频脉冲电场融垢器的设计 | 第34-37页 |
| ·筒体及电极板选材 | 第35-36页 |
| ·筒体直径计算 | 第36-37页 |
| ·电极板间距和尺寸计算 | 第37页 |
| ·高频脉冲电场除垢器的设计 | 第37-38页 |
| ·电极板与外网选材 | 第37页 |
| ·高频脉冲电场除垢器设计 | 第37-38页 |
| ·高频电场水处理器电场理论分析 | 第38-41页 |
| ·平行板间电场 | 第38-39页 |
| ·同轴圆筒形 | 第39-41页 |
| ·ANSYS电场模拟分析 | 第41-48页 |
| ·ANSYS分析过程 | 第42-44页 |
| ·静电场ANSYS分析 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 4 高频脉冲电源设计 | 第49-60页 |
| ·概述 | 第49页 |
| ·电路设计原理 | 第49-50页 |
| ·信号输入电路 | 第50-52页 |
| ·逆变电路 | 第52-55页 |
| ·一次逆变变压电路 | 第52-54页 |
| ·二次逆变变频电路 | 第54-55页 |
| ·辅助电路 | 第55-57页 |
| ·供电电路 | 第55-56页 |
| ·软启动电路 | 第56-57页 |
| ·采样反馈电路 | 第57-59页 |
| ·电压检测电路 | 第57-58页 |
| ·频率检测电路 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 5 高频电场实验研究 | 第60-75页 |
| ·实验装置 | 第60-62页 |
| ·系统装置 | 第60-61页 |
| ·钛基平行电极板的制备 | 第61-62页 |
| ·实验测量参数测量 | 第62-66页 |
| ·溶液硬度测量 | 第62-64页 |
| ·溶液电导率测量 | 第64-65页 |
| ·垢颗粒的扫描电镜(SEM)观察 | 第65-66页 |
| ·阻垢率计算 | 第66页 |
| ·实验结果及分析 | 第66-73页 |
| ·电场频率不变,处理效果随电场强度的变化 | 第66-69页 |
| ·电场强度不变,处理效果随频率的变化 | 第69-71页 |
| ·加上外电场,处理效果随时间的变化 | 第71-72页 |
| ·碳酸钙晶体的SEM观察 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 总结与展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士期间所发表的学术论文 | 第82-83页 |
