| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| ·TiO_2 光催化剂的研究 | 第11-15页 |
| ·TiO_2 的性质 | 第11-12页 |
| ·TiO_2 半导体光催化反应机理 | 第12-13页 |
| ·改性TiO_2 光催化剂的研究现状 | 第13-15页 |
| ·制备固定化TiO_2 薄膜的方法 | 第15-22页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第16-17页 |
| ·化学气相沉淀法(CVD) | 第17-18页 |
| ·液相沉积法(LPD) | 第18-19页 |
| ·溅射法(Sputteruing Method) | 第19-21页 |
| ·电化学法 | 第21-22页 |
| ·等离子体微弧氧化技术 | 第22-27页 |
| ·等离子体微弧氧化技术 | 第22-24页 |
| ·钛及钛合金表面微弧氧化的物理化学过程 | 第24-26页 |
| ·微弧氧化制备光催化TiO_2 薄膜研究现状 | 第26-27页 |
| ·论文选题与实验内容设计 | 第27-29页 |
| 第2章 实验材料和研究方法 | 第29-32页 |
| ·实验试剂及常用设备 | 第29-30页 |
| ·实验所用化学试剂 | 第29-30页 |
| ·常用仪器和设备 | 第30页 |
| ·催化剂的表征方法 | 第30-31页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第30页 |
| ·紫外可见(UV-Vis)漫反射光谱 | 第30页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第30-31页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第31页 |
| ·光催化性能评价实验 | 第31-32页 |
| ·光催化反应的实验装置 | 第31页 |
| ·光催化性能评价反应 | 第31-32页 |
| 第3章 微弧氧化工艺条件对TiO_2 薄膜成膜影响及光催化性能研究 | 第32-45页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·微弧氧化法制备TiO_2 薄膜 | 第32-33页 |
| ·工艺条件对TiO_2 薄膜成膜的影响及光催化性能研究 | 第33-43页 |
| ·电解液浓度对TiO_2 薄膜成膜及光催化性能的影响 | 第33-36页 |
| ·氧化时间对TiO_2 薄膜成膜及光催化性能的影响 | 第36-39页 |
| ·电流密度对TiO_2 薄膜成膜及光催化性能影响 | 第39-43页 |
| ·优化工艺条件制备TiO_2 薄膜的催化稳定性能考察 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 非金属离子掺杂TiO_2 薄膜的制备及光催化性能研究 | 第45-61页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·电解液中添加Na_2SO_3 制备S 离子掺杂TiO_2 薄膜及光催化性能研究 | 第45-50页 |
| ·XRD 表征 | 第45-46页 |
| ·UV-vis 表征 | 第46-47页 |
| ·SEM 表征 | 第47-48页 |
| ·XPS 表征 | 第48-49页 |
| ·产氢性能评价 | 第49-50页 |
| ·电解液中添加Na_2S_2O_3 制备S 离子掺杂TiO_2 薄膜及光催化性能研究 | 第50-54页 |
| ·XRD 表征 | 第50页 |
| ·UV-vis 表征 | 第50-51页 |
| ·SEM 表征 | 第51-52页 |
| ·XPS 表征 | 第52-53页 |
| ·产氢性能评价 | 第53-54页 |
| ·气体热扩渗后处理制备C 掺杂TiO_2 薄膜及光催化性能研究 | 第54-59页 |
| ·XRD 表征 | 第55-56页 |
| ·UV-vis 表征 | 第56页 |
| ·SEM 表征 | 第56-58页 |
| ·XPS 表征 | 第58-59页 |
| ·产氢性能评价 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第5章 电解液修饰法制备过渡金属离子掺杂TiO_2 薄膜及光催化性能研究 | 第61-79页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·Ni 离子掺杂TiO_2 薄膜的制备及光催化性能评价 | 第61-67页 |
| ·XRD 表征结果 | 第61-63页 |
| ·UV-vis 表征结果 | 第63页 |
| ·SEM 表征结果 | 第63-65页 |
| ·XPS 表征结果 | 第65-66页 |
| ·产氢性能评价 | 第66-67页 |
| ·Co 离子掺杂TiO_2 薄膜的制备及光催化性能评价 | 第67-72页 |
| ·XRD 表征结果 | 第67-68页 |
| ·UV-vis 表征结果 | 第68页 |
| ·SEM 表征结果 | 第68-70页 |
| ·XPS 表征结果 | 第70-71页 |
| ·产氢性能评价 | 第71-72页 |
| ·Cr 离子掺杂TiO_2 薄膜的制备及光催化性能评价 | 第72-77页 |
| ·XRD 表征结果 | 第72-73页 |
| ·UV-vis 表征结果 | 第73-74页 |
| ·SEM 表征结果 | 第74-75页 |
| ·XPS 表征结果 | 第75-76页 |
| ·产氢性能评价 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 结论 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第89页 |
