| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·砷污染的现状及危害 | 第11-13页 |
| ·水中砷污染的现状 | 第11-13页 |
| ·水体中砷污染的危害 | 第13页 |
| ·砷检测技术的发展及现状 | 第13-18页 |
| ·原子吸收光谱法 | 第13页 |
| ·原子发射光谱法 | 第13-14页 |
| ·原子荧光光谱法 | 第14页 |
| ·质谱法 | 第14页 |
| ·电化学方法 | 第14-18页 |
| ·氧化亚铜的概述 | 第18-20页 |
| ·金纳米粒子的制备及应用 | 第20-23页 |
| ·金纳米粒子的性质及制备 | 第20-22页 |
| ·纳米多孔金电极的制备 | 第22页 |
| ·金纳米粒子在As(III)检测方面的应用 | 第22-23页 |
| ·砷的去除方法概述 | 第23-25页 |
| ·砷的去除方法 | 第23-24页 |
| ·壳聚糖及复合材料对砷去除的应用 | 第24-25页 |
| ·砷的电化学分析及去除方法的研究趋势和发展前景 | 第25页 |
| ·本论文的意义和主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 氧化亚铜和离子液体修饰碳糊电极的制备及用于As(III)的检测 | 第27-39页 |
| ·引言 | 第27-28页 |
| ·实验部分 | 第28-29页 |
| ·主要实验试剂 | 第28页 |
| ·实验仪器 | 第28页 |
| ·Cu2O/IL/CPE电极的制备 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-38页 |
| ·CPE、IL/CPE、Cu2O/IL/CPE的电化学响应 | 第29-30页 |
| ·扫描速率对电化学响应的影响 | 第30-31页 |
| ·pH值、Cu2O含量的优化 | 第31-33页 |
| ·As(III)的电化学检测 | 第33-34页 |
| ·计时安培与交流阻抗的研究 | 第34-36页 |
| ·Cu2O/IL/CPE电极的重现性、稳定性及抗干扰能力研究 | 第36-37页 |
| ·实际样品的检测 | 第37-38页 |
| ·结论 | 第38-39页 |
| 第三章 粗糙法制备纳米多孔金电极及用于As(III)的检测 | 第39-49页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验部分 | 第39-41页 |
| ·主要实验试剂 | 第39页 |
| ·实验仪器 | 第39-40页 |
| ·纳米多孔金电极的制备 | 第40页 |
| ·As(III)的电化学检测 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-48页 |
| ·NPGE电极表面的结构特征 | 第41-42页 |
| ·NPGE电极表面的粗糙度 | 第42页 |
| ·NPGE电极的电化学响应 | 第42-43页 |
| ·实验条件的优化 | 第43-46页 |
| ·方波阳极溶出伏安法检测As(III) | 第46-47页 |
| ·重现性、稳定性、抗干扰能力研究 | 第47-48页 |
| ·实际水样的检测 | 第48页 |
| ·结论 | 第48-49页 |
| 第四章 巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜的制备及其砷吸附性能的研究 | 第49-59页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验部分 | 第50-52页 |
| ·主要试剂 | 第50页 |
| ·主要仪器 | 第50页 |
| ·巯基壳聚糖/活性炭复合功能膜（CS-SH/CL）的制备 | 第50-51页 |
| ·CS-SH/CL吸附性能的测定及再生实验 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-57页 |
| ·CS-SH/CL功能膜的表征 | 第52-54页 |
| ·溶液pH对As(III)和As(V)吸附性能的影响 | 第54-55页 |
| ·吸附剂用量对As(III)和As(V)吸附的影响 | 第55-56页 |
| ·CS-SH/CL功能膜对砷吸附的选择性 | 第56-57页 |
| ·CS-SH/CL功能膜的再生实验 | 第57页 |
| ·结论 | 第57-59页 |
| 主要结论与展望 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 附录: 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69页 |
