宽光谱减反射微结构研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-12页 |
| ·表面微结构光学元件 | 第7-8页 |
| ·表面光学微结构元件的发展 | 第7页 |
| ·衍射微纳米元件的特点及其应用 | 第7-8页 |
| ·具有亚波长结构的衍射型微结构光学元件 | 第8页 |
| ·减反射亚波长周期光栅 | 第8-10页 |
| ·传统减反射方法 | 第8-9页 |
| ·亚波长减反射光栅的研究进展 | 第9-10页 |
| ·亚波长减反射光栅在太阳能光伏电池上的应用 | 第10-11页 |
| ·太阳能 | 第10页 |
| ·光伏电池表面亚波长减反射结构的研究进展 | 第10-11页 |
| ·本文主要研究内容 | 第11-12页 |
| 2 亚波长减反射光栅的理论分析方法 | 第12-21页 |
| ·严格耦合波理论 | 第12-13页 |
| ·模态理论 | 第13-14页 |
| ·等效介质理论 | 第14-19页 |
| ·亚波长光栅只存在零级衍射波的条件 | 第14-15页 |
| ·一维等效介质折射率的求解 | 第15-18页 |
| ·二维光栅的等效折射率 | 第18-19页 |
| ·亚波长光栅反射率的求解 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 3 微细加工技术 | 第21-29页 |
| ·腐蚀加工技术 | 第21-22页 |
| ·沉积加工技术 | 第22页 |
| ·光刻加工技术 | 第22-23页 |
| ·LIGA工艺技术 | 第23-24页 |
| ·探针工艺 | 第24页 |
| ·自组装工艺技术 | 第24-25页 |
| ·纳米压印技术 | 第25-26页 |
| ·基于激光干涉的光刻技术 | 第26-27页 |
| ·无掩模类型的干涉光刻 | 第26页 |
| ·全息光刻 | 第26-27页 |
| ·成像性干涉光刻 | 第27页 |
| ·新型微加工工艺 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 4 微结构光栅的制备与性能分析 | 第29-47页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·激光干涉理论 | 第30-31页 |
| ·双光束偏振全息干涉技术 | 第31-32页 |
| ·光刻制作工艺流程 | 第32-35页 |
| ·基片预处理 | 第32-33页 |
| ·涂胶 | 第33-34页 |
| ·前烘 | 第34页 |
| ·曝光 | 第34页 |
| ·显定影 | 第34-35页 |
| ·双光束全息干涉实验系统 | 第35-37页 |
| ·干涉系统实验装置 | 第35-36页 |
| ·显影定影 | 第36-37页 |
| ·反射率检测 | 第37-43页 |
| ·润湿性能分析 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 5 结论 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
