| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·纳米材料及尺寸效应 | 第10页 |
| ·多铁性材料介绍 | 第10-11页 |
| ·磁电复合材料 | 第11-12页 |
| ·磁电容效应 | 第12页 |
| ·交换偏置效应 | 第12-15页 |
| ·影响交换偏置场大小的因素 | 第15-16页 |
| ·交换偏置效应的理论模型 | 第16页 |
| ·交换偏置的应用 | 第16-17页 |
| ·本论文的研究目的和内容 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 Co和Co_3O_4薄膜的制备和表征 | 第23-47页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·团簇束流法制备Co和Co_3O_4团簇纳米薄膜 | 第23-31页 |
| ·超高真空团簇束流沉积原理和系统(UHV-CBS) | 第24-26页 |
| ·Co和Co_3O_4团簇薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·Co和Co_3O_4团簇薄膜的形貌表征 | 第27-31页 |
| ·反应磁控溅射制备Co_3O_4薄膜 | 第31-38页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜的原理 | 第31-34页 |
| ·薄膜制备过程和实验参数 | 第34-35页 |
| ·薄膜的形貌表征 | 第35-36页 |
| ·薄膜的成分分析 | 第36-38页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法制备Co_3O_4薄膜 | 第38-43页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法原理介绍 | 第38-40页 |
| ·脉冲激光沉积法制备Co_3O_4薄膜的过程和参数 | 第40-41页 |
| ·Co_3O_4薄膜的成分分析 | 第41-42页 |
| ·Co_3O_4薄膜的电学性质表征 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第三章 CO/Co_3O_4/PZT复合薄膜的制备与性质研究 | 第47-69页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·PZT薄膜的制备 | 第47-52页 |
| ·PZT薄膜的结构与性质 | 第47-49页 |
| ·PZT薄膜的制备与表征 | 第49-52页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的形貌表征 | 第53页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的成分分析 | 第53-55页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的磁学性质 | 第55-57页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的常温电学性质 | 第57-59页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的低温磁电容性质 | 第59-65页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的电容-温度(C-T)曲线 | 第59-61页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的电容-磁场(C-H)曲线 | 第61-62页 |
| ·Co/Co_3O_4/PZT复合薄膜的磁电耦合机理分析 | 第62-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 第四章 总结与展望 | 第69-72页 |
| ·总结 | 第69-70页 |
| ·研究展望 | 第70-72页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
