硅纳米线和多孔硅的制备及表面修饰研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-15页 |
| 第二章 文献综述 | 第15-31页 |
| ·影响太阳能电池效率的因素 | 第15-16页 |
| ·太阳能电池的减反射研究和光比转换研究 | 第16-18页 |
| ·太阳能电池表面的减反射研究 | 第16-17页 |
| ·太阳能电池表面制绒 | 第16-17页 |
| ·制作减反射薄膜 | 第17页 |
| ·光波转换材料研究 | 第17-18页 |
| ·硅纳米线的研究和应用 | 第18-24页 |
| ·硅纳米线制备 | 第18-19页 |
| ·硅纳米线的光学和电学性能研究 | 第19-21页 |
| ·硅纳米线的电输运特性 | 第19-20页 |
| ·硅纳米线的光学特性 | 第20-21页 |
| ·硅纳米线在太阳能电池上的应用 | 第21-24页 |
| ·硅纳米线减反太阳能电池 | 第21-22页 |
| ·径向、轴向P-N结结构硅纳米线电池 | 第22-23页 |
| ·硅衬底和硅纳米线之间构成P-N结的太阳能电池 | 第23页 |
| ·硅纳米线和化合物组成的混合电池 | 第23-24页 |
| ·多孔硅的发现和光致发光研究 | 第24-27页 |
| ·多孔硅的发现 | 第24页 |
| ·多孔硅的光致发光研究 | 第24-27页 |
| ·多孔硅的表面处理 | 第27-29页 |
| ·多孔硅的快速热氧化 | 第27-28页 |
| ·金属钝化 | 第28-29页 |
| ·氮钝化处理 | 第29页 |
| ·多孔硅表面的化学修饰 | 第29页 |
| ·本论文的选题依据和研究内容 | 第29-31页 |
| 第三章 实验原理与实验过程 | 第31-39页 |
| ·实验概述 | 第31页 |
| ·实验原理及方法 | 第31-36页 |
| ·金属辅助化学腐蚀制备硅纳米线 | 第31-33页 |
| ·阳极氧化法制备多孔硅 | 第33-35页 |
| ·多孔硅的化学修饰 | 第35-36页 |
| ·测试设备及测试原理 | 第36-39页 |
| ·场发射扫描电子显微镜 | 第36-37页 |
| ·反射率测试 | 第37页 |
| ·光致发光谱测试 | 第37-38页 |
| ·傅里叶转换红外光谱 | 第38-39页 |
| 第四章 硅纳米线的制备和表征 | 第39-53页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验过程 | 第39-40页 |
| ·硅片的切割和清洗 | 第39页 |
| ·硅片的化学腐蚀 | 第39-40页 |
| ·表征 | 第40页 |
| ·实验结果分析和讨论 | 第40-52页 |
| ·硅纳米线阵列的结构特性 | 第40-44页 |
| ·腐蚀时间对硅纳米线结构的影响 | 第40-42页 |
| ·双氧水浓度对硅纳米线结构的影响 | 第42-43页 |
| ·衬底差异对硅纳米线结构的影响 | 第43-44页 |
| ·硅线阵列的发光特性 | 第44-47页 |
| ·腐蚀时间对硅纳米线发光的影响 | 第44-45页 |
| ·双氧水浓度对硅纳米线发光的影响 | 第45-46页 |
| ·衬底差异对硅纳米线发光的影响 | 第46-47页 |
| ·硅线阵列的减反射特性 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 阳极氧化法制备多孔硅 | 第53-62页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·实验过程 | 第53-54页 |
| ·硅片的清洗 | 第53页 |
| ·Al电极的制备 | 第53-54页 |
| ·多孔硅的制备 | 第54页 |
| ·表征 | 第54页 |
| ·实验结果分析和讨论 | 第54-61页 |
| ·恒电流法制备的多孔硅的发光特性研究 | 第54-57页 |
| ·腐蚀时间对多孔硅发光的影响 | 第54-55页 |
| ·电流密度对多孔硅发光的影响 | 第55-56页 |
| ·硅衬底对多孔硅发光的影响 | 第56-57页 |
| ·阶跃式恒电流法制备多控规炎研究 | 第57-59页 |
| ·多孔硅的减反射性能研究 | 第59-60页 |
| ·多孔硅的发光稳定性和时效性研究 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 多孔硅的表面修饰 | 第62-70页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·实验过程 | 第62-63页 |
| ·多孔硅颗粒的制备 | 第62页 |
| ·多孔硅颗粒表面的氢化处理 | 第62-63页 |
| ·多孔硅颗粒的表面修饰 | 第63页 |
| ·表征 | 第63页 |
| ·实验结果分析 | 第63-69页 |
| ·表面修饰对多孔硅发光的影响 | 第63-65页 |
| ·反应时间对多孔硅发光的影响 | 第65页 |
| ·表面修饰对多孔硅发光稳定性的影响 | 第65-67页 |
| ·表面修饰对多孔硅分散性的影响 | 第67-68页 |
| ·多孔硅的表面红外光谱分析 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第七章 全文结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 个人简历 | 第80-81页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第81页 |