| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| ·太阳能电池研究背景 | 第10-11页 |
| ·太阳能电池简介 | 第11-15页 |
| ·太阳能电池工作原理 | 第11-12页 |
| ·太阳能电池的发展历史 | 第12-14页 |
| ·太阳能电池发展的限制因素 | 第14-15页 |
| ·提高太阳能电池转换效率的方法 | 第15-17页 |
| ·多结太阳能电池 | 第15-16页 |
| ·量子点太阳能电池 | 第16-17页 |
| ·光波转换材料在太阳能电池中的应用 | 第17页 |
| ·纳米晶硅薄膜简介及其制备方法介绍 | 第17-22页 |
| ·纳米晶硅薄膜简介及其研究 | 第17-20页 |
| ·镶嵌在 SiO_2介质中的纳米晶硅理论简介及其制备 | 第20-22页 |
| ·热丝化学气相沉积法简介 | 第22-25页 |
| ·热丝化学气相沉积法发展背景 | 第22页 |
| ·热丝化学气相沉积法的基本原理 | 第22-23页 |
| ·热丝化学气相沉积系统简介 | 第23-25页 |
| ·本课题研究内容和意义 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第2章 热丝化学气相沉积法制备硅薄膜 | 第27-36页 |
| ·测试仪器及方法介绍 | 第27-31页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第27-28页 |
| ·台阶仪 | 第28页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| ·原子力显微镜 | 第30页 |
| ·方块电阻-四探针法 | 第30-31页 |
| ·HWCVD 法沉积薄膜的基本步骤 | 第31-33页 |
| ·热丝的选择与处理 | 第31页 |
| ·衬底的选择与处理 | 第31-32页 |
| ·实验的具体操作步骤 | 第32-33页 |
| ·不同条件下硅薄膜制备及其性能表征 | 第33-35页 |
| ·热丝法制备非晶硅薄膜 | 第33-34页 |
| ·热丝法制备纳米晶硅薄膜 | 第34-35页 |
| ·纳米晶薄膜的退火工艺研究 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 实验结果与讨论 | 第36-59页 |
| ·热丝法制备非晶硅薄膜 | 第36-39页 |
| ·衬底温度对非晶硅薄膜性能的影响 | 第36页 |
| ·快速退火工艺对非晶硅薄膜的影响 | 第36-39页 |
| ·氢气流量对纳米硅薄膜微结构和性能的影响 | 第39-46页 |
| ·氢气流量对薄膜微结构的影响 | 第39-42页 |
| ·氢气流量对薄膜光学性能的影响 | 第42-44页 |
| ·氢气流量对薄膜电学性能的影响 | 第44页 |
| ·氢气流量对薄膜沉积速率的影响 | 第44-46页 |
| ·衬底温度对纳米硅薄膜微结构和性能的影响 | 第46-50页 |
| ·衬底温度对薄膜微结构的影响 | 第46-48页 |
| ·衬底温度对薄膜光学性能的影响 | 第48-49页 |
| ·衬底温度对薄膜沉积速率的影响 | 第49-50页 |
| ·热丝与衬底间距对纳米硅薄膜微结构和性能的影响 | 第50-52页 |
| ·热丝与衬底间距对薄膜微结构的影响 | 第50-51页 |
| ·热丝与衬底间距对薄膜光学性能的影响 | 第51-52页 |
| ·热丝与衬底间距对薄膜沉积速率的影响 | 第52页 |
| ·退火工艺对纳米硅薄膜微结构和性能的影响 | 第52-58页 |
| ·不同温度热处理的薄膜结晶状况分析 | 第53-55页 |
| ·不同温度热处理的薄膜表面形貌分析 | 第55-56页 |
| ·不同温度热处理的薄膜光学性能分析 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 作者简介 | 第66页 |