TiO2纳米晶结构形态、光电特性及其光催化性能研究
| 摘 要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 前 言 | 第8-22页 |
| ·纳米半导体的概述 | 第8-12页 |
| ·半导体和纳米材料 | 第8-9页 |
| ·纳米半导体的光电特性 | 第9-12页 |
| ·半导体光催化技术 | 第12-20页 |
| ·半导体光催化的概述 | 第12-14页 |
| ·半导体光催化原理 | 第14-16页 |
| ·影响多相光催化性能的因素 | 第16-20页 |
| ·立题依据 | 第20-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-28页 |
| ·主要试剂及设备 | 第22-23页 |
| ·主要实验试剂 | 第22页 |
| ·主要设备及仪器 | 第22-23页 |
| ·实验过程及方法 | 第23-28页 |
| ·实验工艺流程图 | 第23页 |
| ·催化剂的制备 | 第23-24页 |
| ·催化剂的表征 | 第24-26页 |
| ·羟基自由基的检测 | 第26页 |
| ·催化剂反应性能评价 | 第26-28页 |
| 第三章 TiO2纳米晶结构和光电特性 | 第28-46页 |
| ·TiO2纳米晶的结构 | 第29-31页 |
| ·TG-DTA分析 | 第29页 |
| ·TiO2纳米晶的XRD分析 | 第29-30页 |
| ·TiO2纳米晶的比表面积测定 | 第30-31页 |
| ·TiO2纳米晶的吸光性能 | 第31-32页 |
| ·TiO2纳米晶光生载流子的行为 | 第32-45页 |
| ·表面光电压谱分析 | 第33-36页 |
| ·光致发光谱分析 | 第36-42页 |
| ·瞬态光电导分析 | 第42-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第四章 TiO2纳米晶表面羟基自由基形成及其检测 | 第46-51页 |
| ·羟基自由基的形成机理 | 第46页 |
| ·羟基自由基的检测方法 | 第46-48页 |
| ·化学荧光法测定羟基自由基 | 第48-50页 |
| ·光照时间对诱导荧光强度的影响 | 第48-49页 |
| ·TiO2纳米晶表面羟基自由基生成速率的测定 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第五章 TiO2纳米晶光催化性能的研究 | 第51-56页 |
| ·液相光催化性能评价 | 第51-52页 |
| ·气相光催化性能评价 | 第52-53页 |
| ·光催化反应机理的初探 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 个人简历 | 第64页 |
| 发表文章目录 | 第64页 |
