镍/铜基薄膜的可控制备和应用研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-20页 |
| ·发展太阳能电池的意义 | 第10-11页 |
| ·国内外光伏产业现状 | 第11页 |
| ·光伏材料发展状况 | 第11-12页 |
| ·光伏薄膜材料的制备方法 | 第12-15页 |
| ·电化学沉积法概述 | 第15-18页 |
| ·基本理论 | 第15-16页 |
| ·影响因素 | 第16页 |
| ·电化学沉积法的应用 | 第16-17页 |
| ·电化学沉积法制备薄膜的表征方法 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究意义及内容 | 第18-20页 |
| ·本文的研究意义 | 第18-19页 |
| ·本文的研究内容 | 第19-20页 |
| 2 电化学沉积法制备Cu_2O薄膜 | 第20-32页 |
| ·Cu_2O的基本性质 | 第20-21页 |
| ·Cu_2O的研究现状及应用 | 第21-24页 |
| ·Cu_2O的电沉积原理 | 第24-25页 |
| ·实验设计与表征 | 第25-26页 |
| ·实验结果与讨论 | 第26-31页 |
| ·PH值的影响 | 第26-28页 |
| ·沉积电位的影响 | 第28页 |
| ·Cu_2O薄膜的成分分析 | 第28-30页 |
| ·Cu_2O薄膜的形貌分析 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 3 化学镀Ni薄膜 | 第32-42页 |
| ·Ni的基本性质 | 第32-33页 |
| ·化学镀Ni的研究现状及应用 | 第33-34页 |
| ·化学镀Ni薄膜的基本原理 | 第34-35页 |
| ·实验设计与表征 | 第35-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-40页 |
| ·沉积温度的影响 | 第37页 |
| ·沉积时间的影响 | 第37-39页 |
| ·烧结温度的影响 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 4 电化学沉积法制备Cu薄膜 | 第42-52页 |
| ·Cu薄膜的基本性质 | 第42-43页 |
| ·电化学沉积Cu的研究现状及应用 | 第43页 |
| ·电化学沉积Cu的基本原理 | 第43-44页 |
| ·实验设计与表征 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-49页 |
| ·沉积温度的影响 | 第45-47页 |
| ·沉积时间的影响 | 第47-48页 |
| ·薄膜方块电阻非均匀性的表征 | 第48-49页 |
| ·乙酸铜体系电解液制备Cu薄膜 | 第49-51页 |
| ·X射线衍射仪(XRD)表征 | 第49-50页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 5 光诱导液相沉积Ni/Cu薄膜及其应用 | 第52-58页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·光诱导液相沉积薄膜栅线的原理 | 第52-53页 |
| ·工艺流程 | 第53-54页 |
| ·结果与表征 | 第54-56页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第54-55页 |
| ·激光共聚焦显微镜与I-V测试仪表征 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 6 结论及展望 | 第58-60页 |
| ·本文主要工作及结论 | 第58页 |
| ·本文的创新点 | 第58-59页 |
| ·进一步建议 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 作者简历 | 第66-70页 |
| 学位论文数据集 | 第70页 |
