基于电子对效应的正电子分析研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
主要符号对照表	第8-9页
第1章 绪论	第9-19页
·选题背景	第9-15页
·基本原理	第9-13页
·研究现状	第13-15页
·研究方案和技术路线	第15-16页
·课题的关键问题	第16-19页
第2章 模拟研究	第19-34页
·正电子分析的灵敏度	第19-29页
·不同能量加速器产生的轫致辐射X 射线	第20-21页
·测量材料内部缺陷的可行性	第21-24页
·不同加速器能量、材料得到的灵敏度	第24-28页
·散射角的影响	第28-29页
·信本比的研究	第29-33页
·散射角θ对信本比的影响	第29-30页
·硬化屏蔽条件的计算	第30-31页
·硬化屏蔽效果的效果评价	第31-33页
·来自靶头的透射影响	第33页
·小结	第33-34页
第3章 实验研究	第34-70页
·实验方案与环境	第34-40页
·实验环境和主要设备	第34-37页
·实验系统的设计	第37-40页
·精确测量多普勒展宽的可行性	第40-48页
·测量到湮没光子的可行性	第40-41页
·精确测量展宽的可行性	第41-48页
·γ能谱的数学处理方法	第48-53页
·半宽度(FWHM)分析	第49-51页
·S 曲线分析	第51-53页
·样品的测量	第53-68页
·实验的统计性	第54-55页
·不同材料的测量	第55-60页
·材料在不同状态下的测量	第60-66页
·对材料内部的测量	第66-68页
·小结	第68-70页
第4章 实验方案的初步改进	第70-78页
·662keV 峰的归一化处理	第70-73页
·数据采集方式的改进	第73-78页
第5章 总结与展望	第78-81页
·总结	第78-79页
·存在的问题	第79-80页
·后续工作展望	第80-81页
参考文献	第81-83页
致谢	第83-84页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果	第84页