ZnO：Al透明导电薄膜的制备研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 1 绪论 | 第12-23页 |
| ·ZnO 及其掺杂的基本理论 | 第12-15页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第12-14页 |
| ·AZO 薄膜结构与其电学性质 | 第14-15页 |
| ·AZO 薄膜的光学性质 | 第15页 |
| ·AZO 薄膜的应用及研究进展 | 第15-18页 |
| ·AZO 薄膜的应用 | 第15-16页 |
| ·硬质与柔性 AZO 薄膜的研究状况 | 第16-18页 |
| ·柔性衬底上制备 AZO 薄膜的展望 | 第18页 |
| ·AZO 薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19页 |
| ·喷雾热分解法 | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射法 | 第20-21页 |
| ·本文研究的意义及内容 | 第21-23页 |
| ·本文研究的意义 | 第21-22页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第22-23页 |
| 2 射频磁控溅射法制备 AZO 薄膜 | 第23-29页 |
| ·实验材料及设备 | 第23-24页 |
| ·衬底材料的选择 | 第23页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·实验设备 | 第23-24页 |
| ·实验过程 | 第24-25页 |
| ·衬底预处理 | 第24页 |
| ·射频磁控溅射法制备薄膜的过程 | 第24-25页 |
| ·实验工艺参数的选定 | 第25-26页 |
| ·硬质 AZO 薄膜的制备过程 | 第25-26页 |
| ·柔性 AZO 薄膜的制备过程 | 第26页 |
| ·薄膜的形成 | 第26-29页 |
| 3 AZO 薄膜的测试与结果分析 | 第29-61页 |
| ·薄膜的测试原理 | 第29-32页 |
| ·薄膜的电学性能 | 第29-30页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第30页 |
| ·薄膜的结构性能 | 第30-31页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第31-32页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第32页 |
| ·工艺参数对硬质 AZO 薄膜的影响 | 第32-45页 |
| ·溅射功率对硬质 AZO 薄膜的影响 | 第32-36页 |
| ·工作压强对硬质 AZO 薄膜的影响 | 第36-41页 |
| ·衬底温度对硬质 AZO 薄膜的影响 | 第41-45页 |
| ·工艺参数对柔性 AZO 薄膜的影响 | 第45-58页 |
| ·溅射功率对柔性 AZO 薄膜的影响 | 第45-50页 |
| ·工作压强对柔性 AZO 薄膜的影响 | 第50-54页 |
| ·缓冲层厚度对柔性 AZO 薄膜的影响 | 第54-58页 |
| ·硬质 AZO 薄膜与柔性 AZO 薄膜的对比 | 第58-61页 |
| ·结构性能对比 | 第58页 |
| ·表面形貌对比 | 第58-59页 |
| ·光学性能对比 | 第59-60页 |
| ·电学性能对比 | 第60-61页 |
| 4 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第66-67页 |
