基于双平面式精密陶瓷球抛光技术的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 符号说明 | 第11-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| ·课题研究背景 | 第12-14页 |
| ·国内外研究现状 | 第14-22页 |
| ·球体加工机理研究现状 | 第14-15页 |
| ·球体加工方法的研究现状 | 第15-20页 |
| ·陶瓷球抛光工艺研究现状 | 第20-22页 |
| ·本课题的研究目标及意义 | 第22-23页 |
| ·课题研究内容及论文框架 | 第23-25页 |
| ·课题研究内容及创新点 | 第23-24页 |
| ·论文结构安排 | 第24-25页 |
| 第2章 球体双平面抛光运动轨迹研究 | 第25-41页 |
| ·球体双平面抛光方式原理 | 第25-26页 |
| ·球体双平面抛光方式下运动状态分析计算 | 第26-35页 |
| ·球体双平面式抛光方式模型 | 第26-27页 |
| ·球体双平面抛光方式模型简化计算 | 第27-29页 |
| ·球体纯滚动情况下运动分析计算 | 第29-32页 |
| ·球体微滑动情况下运动分析计算 | 第32-35页 |
| ·成球轨迹分析 | 第35-40页 |
| ·球体运动球面轨迹分析 | 第35-37页 |
| ·与其它球体加工方式下成球轨迹比较 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 球体双平面抛光仿真优化分析 | 第41-59页 |
| ·球体双平面抛光方式下运动分析 | 第41-45页 |
| ·不同抛光盘保持架转速比m下的抛光轨迹分析 | 第41-43页 |
| ·不同孔心距偏心距比n下的抛光轨迹分析 | 第43-44页 |
| ·不同球体半径偏心距比l下的抛光轨迹分析 | 第44-45页 |
| ·球体双平面抛光中的滑动现象 | 第45-48页 |
| ·保持架对球体滑动影响 | 第46-47页 |
| ·抛光盘对球体滑动影响 | 第47-48页 |
| ·球面轨迹仿真分析 | 第48-55页 |
| ·仿真模型建立 | 第49-52页 |
| ·球面轨迹的MATLAB定量评价 | 第52-53页 |
| ·坐标转换和球面区域划分 | 第53-54页 |
| ·球面各区域轨迹点密度及均匀性计算 | 第54-55页 |
| ·球面轨迹点均匀性定量分析 | 第55-58页 |
| ·不同抛光盘保持架转速比m下轨迹均匀性定量分析 | 第56页 |
| ·不同孔心距偏心距比n下轨迹均匀性定量分析 | 第56-57页 |
| ·不同球体半径偏心距比l下轨迹均匀性定量分析 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第4章 球体双平面抛光方式下材料去除分析 | 第59-76页 |
| ·双平面抛光方式下球体摩擦类型 | 第59-65页 |
| ·滚动摩擦 | 第60-62页 |
| ·枢转摩擦 | 第62-63页 |
| ·滑动摩擦 | 第63-64页 |
| ·摩擦力矩数值分析 | 第64-65页 |
| ·球体双平面抛光方式下受力分析 | 第65-69页 |
| ·材料去除实验分析 | 第69-75页 |
| ·实验设计 | 第69-71页 |
| ·实验条件 | 第71-72页 |
| ·单因素实验分析 | 第72-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第5章 陶瓷球双平面抛光实验 | 第76-92页 |
| ·陶瓷球抛光实验 | 第76-81页 |
| ·实验及检测设备 | 第76-77页 |
| ·实验设计 | 第77-78页 |
| ·实验分析 | 第78-81页 |
| ·抛光工艺优化实验 | 第81-87页 |
| ·正交实验 | 第81-85页 |
| ·优选工艺参数 | 第85-87页 |
| ·球体双平面抛光方法与传统抛光方法对比 | 第87-88页 |
| ·抛光过程中其它影响因素 | 第88-91页 |
| ·陶瓷毛坯球质量影响 | 第88-89页 |
| ·抛光时间的影响 | 第89-90页 |
| ·环境因素 | 第90-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第6章 总结与展望 | 第92-94页 |
| ·研究总结 | 第92-93页 |
| ·课题展望 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第99页 |
