目标散射特性近场测量方法研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| §1.1 选题背景及意义 | 第8-13页 |
| §1.2 内容安排及主要工作 | 第13-16页 |
| 第二章 目标散射特性近场测量相关的基本理论 | 第16-28页 |
| §2.1 近场与远场 | 第16-17页 |
| §2.2 RCS 的概念 | 第17-19页 |
| §2.3 平面波谱展开理论 | 第19-22页 |
| §2.4 远场与平面波谱的关系 | 第22-24页 |
| §2.5 综合平面波理论 | 第24-26页 |
| §2.6 综合平面波的方向 | 第26-28页 |
| 第三章 双站平面近场散射测量方法研究 | 第28-40页 |
| §3.1 引言 | 第28-29页 |
| §3.2 双站平面近场散射测量 | 第29-30页 |
| §3.3 窗函数在平面近场测量中的应用 | 第30-33页 |
| §3.4 双站平面近场 RCS 测量仿真 | 第33-39页 |
| §3.5 小结 | 第39-40页 |
| 第四章 遗传算法在双站平面近场散射测量中的应用 | 第40-54页 |
| §4.1 引言 | 第40页 |
| §4.2 遗传算法概述 | 第40-43页 |
| §4.3 遗传算法在双站平面近场散射测量中的应用 | 第43-44页 |
| §4.4 计算结果与讨论 | 第44-48页 |
| §4.5 误差分析 | 第48-53页 |
| §4.6 小结 | 第53-54页 |
| 第五章 基于雷达成像的散射测量 | 第54-80页 |
| §5.1 引言 | 第54-55页 |
| §5.2 雷达成像技术概述 | 第55-57页 |
| §5.3 距离高分辨和一维距离像 | 第57-60页 |
| §5.4 近场二维 ISAR 成像算法 | 第60-65页 |
| §5.5 建立计算模型 | 第65-66页 |
| §5.6 旋转目标二维成像仿真 | 第66-74页 |
| §5.7 目标成像 RCS 外推仿真 | 第74-77页 |
| §5.8 误差分析 | 第77-79页 |
| §5.9 小结 | 第79-80页 |
| 第六章 结束语 | 第80-82页 |
| §6.1 论文研究的主要内容 | 第80-81页 |
| §6.2 需要进一步研究的问题 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-86页 |
| 研究成果 | 第86-87页 |
