| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-28页 |
| ·选题背景 | 第10-11页 |
| ·真空镀膜技术 | 第11-12页 |
| ·真空镀膜概述 | 第11页 |
| ·真空镀膜技术特点 | 第11-12页 |
| ·离子镀技术 | 第12-14页 |
| ·离子镀概述 | 第12页 |
| ·离子镀的种类与特点 | 第12-13页 |
| ·离子镀过程中高能离子的作用 | 第13-14页 |
| ·多弧离子镀概述 | 第14-16页 |
| ·多弧离子镀技术背景 | 第14页 |
| ·多弧离子镀的原理 | 第14-15页 |
| ·多弧离子镀的特点 | 第15页 |
| ·多弧离子镀的应用与发展 | 第15-16页 |
| ·活塞环的表面处理技术 | 第16-21页 |
| ·电镀铬 | 第16-17页 |
| ·热喷涂钼涂层活塞环 | 第17页 |
| ·等离子喷涂陶瓷层 | 第17-18页 |
| ·活塞环的氮化处理 | 第18-19页 |
| ·活塞环的活性处理 | 第19页 |
| ·激光改性技术 | 第19页 |
| ·气相沉积 | 第19-21页 |
| ·AlCrN 涂层 | 第21-25页 |
| ·AlCrN 涂层的热稳定性 | 第21-22页 |
| ·AlCrN 涂层的硬度 | 第22-23页 |
| ·AlCrN 涂层的耐磨性能 | 第23页 |
| ·AlCrN 涂层的结合强度 | 第23-24页 |
| ·AlCrN 涂层的制备方法 | 第24页 |
| ·AlCrN 涂层国内外研究现状 | 第24-25页 |
| ·本实验研究目标及内容 | 第25页 |
| ·研究内容 | 第25页 |
| ·技术指标 | 第25页 |
| ·研究技术路线描述 | 第25-28页 |
| 2 试验设备及方法 | 第28-35页 |
| ·试验基体与涂层材料 | 第28-29页 |
| ·基体材料 | 第28页 |
| ·涂层材料 | 第28-29页 |
| ·镀膜设备 | 第29-30页 |
| ·样品镀前预处理 | 第30-31页 |
| ·涂层沉积 | 第31-32页 |
| ·轰击阶段 | 第31页 |
| ·过渡层的沉积 | 第31-32页 |
| ·AlCrN 涂层沉积阶段 | 第32页 |
| ·显微结构分析 | 第32-33页 |
| ·形貌组织观察 | 第32页 |
| ·成份分析 | 第32页 |
| ·相组成及结构分析 | 第32-33页 |
| ·性能测试 | 第33-35页 |
| ·涂层的硬度测试 | 第33页 |
| ·涂层结合强度的测定 | 第33页 |
| ·摩擦因数的测定 | 第33-35页 |
| 3 试验结果及分析 | 第35-53页 |
| ·不同镀膜起始温度对涂层形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·过渡层的制备 | 第36-37页 |
| ·纯 Cr 过渡层的制备工艺 | 第36-37页 |
| ·涂层制备工艺参数分析 | 第37-53页 |
| ·基体偏压对涂层性能的影响 | 第37-43页 |
| ·Al 靶弧流对 AlCrN 涂层性能的影响 | 第43-49页 |
| ·沉积时间对涂层性能的影响 | 第49-53页 |
| 4 Al 含量对 AlCrN 涂层性能的影响 | 第53-61页 |
| ·AlCrN 涂层的制备 | 第53页 |
| ·Al 含量对涂层表面形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·Al 含量对 AlCrN 涂层硬度的影响 | 第54-56页 |
| ·Al 含量对 AlCrN 涂层摩擦性能的影响 | 第56-58页 |
| ·Al 含量对涂层中相结构的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 5 最佳工艺参数下制备 AlCrN 涂层的表面、截面形貌 | 第61-66页 |
| ·通过前几章的分析得出最佳的 AlCrN 沉积参数 | 第61-62页 |
| ·最佳沉积参数下 AlCrN 涂层的表面形貌及点成份分析 | 第62-63页 |
| ·涂层的截面形貌及 EDS 分析 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 6 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 攻读学位期间发表的论文及科研情况 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
