快恢复二极管及缓冲层结构特性研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
1. 绪论	第8-15页
·功率半导体器件概述	第8-10页
·快速、快速软恢复二极管国内外研究现状	第10-13页
·课题来源和研究意义	第13-15页
2. 功率快速二极管基本工作原理	第15-29页
·快速、快速软恢复二极管主要性能参数	第15-19页
·局部寿命控制原理	第19-23页
·PN结击穿机理	第23-26页
·缓冲层结构对二极管特性的影响	第26页
·空间电荷效应对二极管内部场强的影响	第26-28页
·本章小结	第28-29页
3. Silvaco TCAD软件仿真	第29-42页
·Silvaco TCAD软件概述	第29-32页
·不同基区浓度二极管特性仿真	第32-35页
·带缓冲层结构的二极管的仿真	第35-41页
·本章小结	第41-42页
4. 快恢复二极管特性的实验研究	第42-51页
·晶圆不同区域对二极管特性影响	第42-45页
·不同基区浓度二极管结构特性研究	第45-46页
·带缓冲层结构的器件特性实验研究	第46-50页
·本章小结	第50-51页
5. 全文结论	第51-52页
致谢	第52-53页
参考文献	第53-57页
附录1：Silvaco TCAD仿真代码	第57-60页
附录2：器件仿真模型	第60-62页
附录3：攻读硕士期间发表学术论文目录	第62页