聚酰亚胺基碳膜的制备及其等离子镀制类金刚石薄膜的研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-14页 |
第一章 绪论 | 第14-34页 |
·聚酰亚胺简介 | 第14-19页 |
·聚酰亚胺的发展历史 | 第14-15页 |
·聚酰亚胺的合成 | 第15-17页 |
·聚酰亚胺的种类及性能 | 第17页 |
·国内外聚酰亚胺薄膜的发展 | 第17-19页 |
·高分子碳简介 | 第19-20页 |
·聚酰亚胺薄膜碳化的发展 | 第20-21页 |
·国外聚酰亚胺薄膜碳化的发展 | 第20-21页 |
·国内聚酰亚胺薄膜碳化的发展 | 第21页 |
·类金刚石薄膜 | 第21-29页 |
·类金刚石的成分与结构 | 第22-23页 |
·类金刚石薄膜的制备方法 | 第23-26页 |
·物理气相沉积(PVD) | 第23-25页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第25-26页 |
·类金刚石薄膜的性能及应用 | 第26-29页 |
·类金刚石薄膜的性能 | 第27-28页 |
·类金刚石薄膜的应用 | 第28-29页 |
·碳材料导电导热性能的研究 | 第29-32页 |
·导电性能的研究 | 第29-31页 |
·晶体材料的导电机理 | 第29-30页 |
·能带理论 | 第30-31页 |
·导热性能的研究 | 第31-32页 |
·论文课题研究的目的和意义 | 第32-33页 |
·本课题的主要研究内容 | 第33-34页 |
第二章 实验部分 | 第34-40页 |
·聚酰亚胺薄膜制备碳膜 | 第34-35页 |
·原料 | 第34页 |
·实验设备 | 第34页 |
·碳膜的制备 | 第34-35页 |
·层压成型 | 第34-35页 |
·碳化 | 第35页 |
·石墨化 | 第35页 |
·类金刚石薄膜的制备 | 第35-37页 |
·原料 | 第36页 |
·实验设备 | 第36页 |
·类金刚石薄膜的制备 | 第36-37页 |
·基片的清洗 | 第36页 |
·镀制类金刚石薄膜 | 第36-37页 |
·样品的测试与表征 | 第37-40页 |
·差示扫描量热法(TG及DSC) | 第37页 |
·X射线衍射法(XRD) | 第37-38页 |
·元素分析法(EA) | 第38页 |
·傅立叶红外光谱法(FTIR) | 第38页 |
·电子扫描显微镜(SEM) | 第38页 |
·电阻率 | 第38页 |
·密度 | 第38-39页 |
·拉曼光谱法(RAMAN) | 第39-40页 |
第三章 结果与讨论 | 第40-72页 |
·碳化成型工艺的研究 | 第40-44页 |
·PI薄膜碳化的TG及DSC分析 | 第40-41页 |
·成型方法对制品的影响 | 第41-43页 |
·碳化速率对制品的影响 | 第43-44页 |
·小结 | 第44页 |
·PI薄膜碳化过程中结构与性能的研究 | 第44-54页 |
·碳化温度对制品断面形貌的影响 | 第44-46页 |
·PI薄膜碳化过程中结构变化的研究 | 第46-53页 |
·PI薄膜碳化过程中尺寸与质量的变化 | 第46-48页 |
·PI薄膜在碳化过程中化学结构的变化 | 第48-49页 |
·碳化温度对碳膜微晶结构的影响 | 第49-50页 |
·碳化温度对碳膜元素含量的影响 | 第50-53页 |
·小结 | 第53-54页 |
·PI薄膜高温碳化过程中结构与性能的研究 | 第54-63页 |
·高温碳化对PI薄膜结构的影响 | 第54-59页 |
·高温碳化对样品微晶结构的影响 | 第54-56页 |
·高温碳化后样品元素含量的分析 | 第56-58页 |
·碳化温度对样品质量和密度的影响 | 第58-59页 |
·高温碳化后样品导电性能的分析 | 第59-62页 |
·碳化温度对样品电阻率的影响 | 第59-60页 |
·样品微观结构与电性能之间的关系 | 第60-62页 |
·高温碳化后样品的导热性能分析 | 第62页 |
·小结 | 第62-63页 |
·等离子镀膜的研究 | 第63-72页 |
·等离子镀膜对碳膜形貌结构的影响 | 第63-65页 |
·等离子镀膜前后碳膜结晶结构的分析 | 第65-66页 |
·类金刚石薄膜的拉曼光谱分析 | 第66-68页 |
·沉积时间对碳膜的导电性能的影响 | 第68-69页 |
·气体组成对碳膜的导电性能的影响 | 第69-71页 |
·小结 | 第71-72页 |
第四章 结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第79-80页 |
作者和导师简介 | 第80-81页 |
硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第81-82页 |