氦在金属钯、铁薄膜中的微观行为研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-10页 |
| 第1章 课题背景及思想 | 第10-31页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-15页 |
| ·核能在世界及中国发展战略中的地位 | 第10-14页 |
| ·材料中氦行为的研究在聚变能源发展中的重要意义 | 第14-15页 |
| ·国内外研究动态 | 第15-28页 |
| ·金属中氦行为的研究历史和现状 | 第15-18页 |
| ·材料中氦的存在及其影响 | 第18-24页 |
| ·离子束技术在金属中核行为研究中的应用 | 第24-27页 |
| ·理论模拟在金属中氦行为研究中的应用 | 第27-28页 |
| ·本课题的目的与意义 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第2章 实验及分析方法 | 第31-35页 |
| ·实验过程 | 第31页 |
| ·样品的制备 | 第31页 |
| ·基底的清洗 | 第31页 |
| ·分析仪器 | 第31-35页 |
| ·台阶仪（Profiler） | 第31页 |
| ·X 射线荧光分析仪（XRF） | 第31页 |
| ·离子注入机 | 第31-32页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第32页 |
| ·X 光衍射仪（XRD） | 第32页 |
| ·扫描电镜（SEM） | 第32-33页 |
| ·透射电镜（TEM） | 第33页 |
| ·离子束蒸发镀膜机 | 第33-34页 |
| ·白光干涉仪 | 第34页 |
| ·串列加速器 | 第34-35页 |
| 第3章 氦在金属钯薄膜中的微观行为研究 | 第35-54页 |
| ·钯的基本性质与用途 | 第35-36页 |
| ·实验过程 | 第36-45页 |
| ·金属钯薄膜的制备与表征 | 第36-39页 |
| ·SRIM 模拟氦离子注入金属钯薄膜 | 第39-44页 |
| ·氦离子注入金属钯薄膜 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-52页 |
| ·氦在金属钯薄膜中的分布 | 第45-49页 |
| ·金属点阵参数变化 | 第49-51页 |
| ·氦离子注入前后钯膜表面形貌变化 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 氦在金属铁薄膜中的微观行为研究 | 第54-72页 |
| ·金属铁的基本性质 | 第54页 |
| ·实验过程 | 第54-62页 |
| ·金属铁薄膜的制备与表征 | 第54-57页 |
| ·氦离子注入金属铁薄膜 | 第57-58页 |
| ·LKMC 程序模拟氦与铁中缺陷的演化过程 | 第58-62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-70页 |
| ·氦在金属铁薄膜中的分布 | 第62-63页 |
| ·金属点阵参数变化 | 第63-65页 |
| ·氦离子注入前后铁膜表面形貌变化 | 第65-66页 |
| ·LKMC 程序模拟结果与讨论 | 第66-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第5章 全文总结 | 第72-74页 |
| ·全文总结 | 第72-73页 |
| ·需进一步开展的工作 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第80页 |
