| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·硅基发光材料是光子时代的重要物质基础 | 第8-10页 |
| ·实现硅基材料发光的几种途径 | 第10-11页 |
| ·硅基发光材料的研究发展历程 | 第11-13页 |
| ·硅基发光材料发光机理的研究进展情况 | 第13-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 复合薄膜的制备与表征 | 第19-31页 |
| ·薄膜制备方法分类 | 第19-21页 |
| ·磁控溅射设备的结构组成 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射的过程及原理 | 第22-23页 |
| ·靶材的选取与清洗 | 第23-25页 |
| ·实验样品的制备与表征 | 第25-30页 |
| 参考文献 | 第30-31页 |
| 第三章 复合薄膜的光吸收特性 | 第31-41页 |
| ·半导体的光吸收 | 第31-34页 |
| ·半导体晶粒镶嵌复合薄膜光吸收特性 | 第34-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第四章 复合薄膜的光致发光特性 | 第41-53页 |
| ·固体的发光 | 第41-42页 |
| ·半导体材料的发光 | 第42-44页 |
| ·复合薄膜的光致发光 | 第44-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 附录：作者攻读硕士学位期间发表和已完成的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |