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50-110nm高反射率多层膜的设计、制备与检测

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
第1章 绪论第10-14页
   ·引言第10-11页
   ·50-110nm波段反射镜的发展第11-13页
   ·50-110nm波段反射镜的应用价值第13页
   ·本文的研究内容第13-14页
第2章 50-110nm波段高反射率多层膜的设计第14-26页
   ·引言第14-15页
   ·亚四分之一波长多层膜设计方法第15-17页
     ·亚四分之一波长多层膜选材第15-17页
     ·亚四分之一波长多层膜膜厚分布第17页
   ·50-110nm波段高反射率多层膜材料组合的选择第17-23页
   ·50-110nm波段高反射率多层膜膜层厚度的优化第23-25页
   ·本章小结第25-26页
第3章 50-110nm高反射率多层膜的制备第26-36页
   ·引言第26-27页
   ·磁控溅射第27-29页
     ·磁控滩射原理第27-28页
     ·磁控溅射设备第28-29页
   ·多层膜制备工艺第29-31页
   ·溅射速率标定第31-34页
   ·本章小结第34-36页
第4章 50-110nm高反射率多层膜的检测与结果分析第36-45页
   ·引言第36页
   ·高分辨率X射线衍射仪测量第36-41页
     ·高分辨率X射线衍射仪原理第36-39页
     ·X射线衍射仪测试结果与分析第39-41页
   ·同步辐射测量第41-44页
     ·同步辐射测试介绍第41-42页
     ·同步辐射测试结果与分析第42-44页
   ·本章小结第44-45页
第5章 全文总结第45-48页
   ·主要研究成果第45-46页
   ·论文主要创新点第46页
   ·需要进一步解决的问题第46-48页
参考文献第48-51页
致谢第51-52页
个人简历 在读期间发表的学术论文与研究成果第52页

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