| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·离子镀技术的发展 | 第11-12页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第12-15页 |
| ·多弧离子镀原理 | 第12-13页 |
| ·多弧离子镀工艺参数 | 第13-14页 |
| ·多弧离子镀技术的应用 | 第14-15页 |
| ·多弧离子镀技术的发展 | 第15页 |
| ·硬质薄膜的研究进展 | 第15-17页 |
| ·硬质薄膜的多元化发展 | 第15-16页 |
| ·硬质涂层的多层化发展 | 第16页 |
| ·具有本征超硬度的硬质膜的发展 | 第16-17页 |
| ·纳米复合膜 | 第17-19页 |
| ·纳米复合膜的研究进展 | 第17-18页 |
| ·纳米复合膜的应用前景 | 第18页 |
| ·纳米复合膜研究需要解决的问题 | 第18-19页 |
| ·本课题研究的内容及意义 | 第19-20页 |
| ·本课题研究的内容 | 第19页 |
| ·本课题研究的意义 | 第19-20页 |
| ·本课题研究执行的技术路线 | 第20-21页 |
| 第2章 实验设备及方法 | 第21-27页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·实验前试样的预处理 | 第21页 |
| ·镀膜设备 | 第21-22页 |
| ·试样与靶的位置 | 第22页 |
| ·实验流程 | 第22-23页 |
| ·辉光清洗原理及作用 | 第22-23页 |
| ·弧光清洗原理及作用 | 第23页 |
| ·薄膜硬度的测定 | 第23-24页 |
| ·表面形貌、显微结构的观测及薄膜的物相分析 | 第24页 |
| ·TiN/Cu 薄膜沉积工艺设计 | 第24-25页 |
| ·初步正交实验设计 | 第24-25页 |
| ·沉积工艺设计 | 第25页 |
| ·TiN/Ni 薄膜沉积工艺设计 | 第25页 |
| ·纳米复合超硬膜的设计 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 第3章 制备TiN/Cu 薄膜的工艺研究 | 第27-43页 |
| ·多弧离子镀制备TiN/Cu 薄膜的基础实验 | 第27-30页 |
| ·沉积时间对TiN 多元复合膜厚度的影响 | 第27-28页 |
| ·试样与靶的距离对TiN 膜厚度的影响 | 第28-29页 |
| ·基本实验参数的确定 | 第29-30页 |
| ·多弧离子镀制备TiN/Cu 薄膜的工艺研究 | 第30-40页 |
| ·正交实验 | 第30-33页 |
| ·N2 压力的影响 | 第33-35页 |
| ·负偏压的影响 | 第35-37页 |
| ·Cu 靶燃弧时间的影响 | 第37-40页 |
| ·最佳工艺下制备TiN/Cu 复合膜的形貌观察与物相分析 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 TiN/Ni 薄膜的制备工艺结果与分析 | 第43-51页 |
| ·N_2 压力的影响 | 第43-44页 |
| ·沉积工艺 | 第43页 |
| ·N_2压力对TiN/Ni 复合膜硬度的影响 | 第43-44页 |
| ·N-2 压力对TiN/Ni 复合膜表面形貌及色泽的影响 | 第44页 |
| ·Ni 靶燃弧时间的影响 | 第44-47页 |
| ·沉积工艺 | 第45-46页 |
| ·Ni 靶燃弧时间对TiN/Ni 复合膜硬度的影响 | 第46-47页 |
| ·最佳工艺条件下制备的TiN/Ni 复合膜的表面形貌和结构 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-51页 |
| 第5章 纳米复合超硬膜致硬机理的探讨 | 第51-67页 |
| ·薄膜形成原理 | 第51-55页 |
| ·晶核的形成及其生长方式 | 第51-52页 |
| ·薄膜形成的热力学条件 | 第52-54页 |
| ·晶核形成速度 | 第54-55页 |
| ·纳米复合膜的生长方式和微观形貌 | 第55-61页 |
| ·纳米复合膜的晶粒尺寸 | 第61-63页 |
| ·纳米复合膜的力学性能 | 第63-64页 |
| ·产生纳米复合超硬膜优良性能的机理初探 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
