| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 概述 | 第7-15页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·应用前景 | 第8-11页 |
| ·国内外研究动态 | 第11-13页 |
| ·研究意义及目的 | 第13-15页 |
| 第二章 VO_2的基本性质 | 第15-22页 |
| ·金属钒 | 第15-16页 |
| ·钒氧化物 | 第16-19页 |
| ·VO_2的相变结构及相变原理 | 第19-22页 |
| 第三章 VO_2薄膜的制备 | 第22-30页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第22-23页 |
| ·溅射靶的制备 | 第23-24页 |
| ·清洗基片 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射氧化钒薄膜的流程 | 第25-26页 |
| ·镀膜机的操作 | 第26-28页 |
| ·薄膜的退火处理 | 第28-30页 |
| 第四章 薄膜的结构与性能测试 | 第30-52页 |
| ·AFM表面形貌 | 第30-32页 |
| ·SEM表面形貌 | 第32-34页 |
| ·XPS分析 | 第34-40页 |
| ·Raman光谱分析 | 第40-43页 |
| ·UV-Vis分析 | 第43-48页 |
| ·电阻温度曲线 | 第48-52页 |
| 第五章 总结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 研究生期间发表的文章 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |