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中远红外激光薄膜技术研究

摘要第1-13页
第一章 绪论第13-25页
   ·研究目的及意义第13-17页
   ·中红外激光薄膜国内外研究进展第17-21页
   ·本论文的内容安排第21-22页
 参考文献第22-25页
第二章 激光薄膜设计理论及制备技术第25-50页
   ·激光薄膜设计理论第25-39页
     ·光学薄膜的光学特性计算方法第28-32页
     ·光学薄膜的驻波场计算方法第32-36页
     ·激光薄膜的设计方法第36-39页
   ·中远红外光学薄膜制备技术第39-47页
     ·基板材料选取和清洗工艺第39-41页
     ·薄膜材料的选取第41-44页
     ·薄膜沉积方法第44-45页
     ·工艺参数的确定第45-47页
   ·小结第47-48页
 参考文献第48-50页
第三章 光学薄膜温度场理论及损伤机理研究第50-76页
   ·光学薄膜温度场的基本理论第50-52页
   ·光学薄膜温度场的数值模拟第52-66页
     ·数值计算方法第52-54页
     ·计算程序的校核第54-56页
     ·高反膜温度场分布的计算模拟第56-62页
     ·增透膜温度场分布的计算模拟第62-64页
     ·共孔径分光镜薄膜温度场分布的计算模拟第64-66页
   ·连续波激光辐照下光学薄膜的损伤机理第66-73页
     ·熔融损伤第66-67页
     ·热应力破坏第67-68页
     ·热冲击破坏第68-70页
     ·缺陷损伤第70-73页
   ·小结第73-74页
 参考文献第74-76页
第四章 光学薄膜的缺陷研究第76-108页
   ·缺陷分类及特点第76-82页
     ·微观缺陷第76-79页
     ·宏观缺陷第79-82页
   ·缺陷形貌检测第82-94页
     ·检测手段第83-84页
     ·缺陷形貌原子力显微镜检测结果第84-94页
   ·缺陷检测与统计第94-99页
     ·单层薄膜第94-97页
     ·多层膜第97-99页
   ·缺陷形成机理第99-101页
   ·缺陷对激光损伤阈值的影响第101-102页
   ·减少缺陷的方法第102-105页
     ·激光预处理方法第102-103页
     ·沉积方法的选择第103-104页
     ·沉积参数的优化第104页
     ·真空系统的选择第104-105页
     ·膜材料的选择第105页
   ·小结第105-106页
 参考文献第106-108页
第五章 光学薄膜参数测量第108-143页
   ·微弱吸收测量第108-122页
     ·表面热透镜技术测量微弱吸收的基本原理第109-110页
     ·远红外(CO_2激光)薄膜微弱吸收测量第110-117页
     ·中红外波段薄膜微弱吸收测量第117-122页
   ·高反射率测量第122-131页
     ·光腔衰荡法测量反射率的基本原理第122-126页
     ·光腔衰荡测量系统对实验装置的要求第126-128页
     ·高反射率测量装置的建立第128页
     ·高反射率测量结果及分析第128-131页
   ·薄膜应力测量第131-140页
     ·张应力和压应力第131-133页
     ·应力的测量第133-140页
   ·小结第140-141页
 参考文献第141-143页
第六章 中远红外薄膜研制与热畸变实验第143-177页
   ·中红外反射镜研制第143-152页
     ·膜系设计及薄膜材料选择第143-151页
     ·制备工艺及测试结果第151-152页
   ·中红外激光窗口增透膜研制第152-156页
     ·膜系设计及薄膜材料选择第153-155页
     ·制备工艺及测试结果第155-156页
   ·共孔径分光镜研制第156-162页
     ·膜系设计第156-161页
     ·制备工艺及测试结果第161-162页
   ·薄膜元件的热畸变实验研究第162-174页
     ·Shack-Hartmann波前传感器的工作原理第163页
     ·热畸变实验装置的建立第163-165页
     ·热畸变测量结果与分析第165-174页
   ·小结第174-175页
 参考文献第175-177页
第七章 总结第177-179页
攻读博士学位期间发表论文、科研工作及获奖情况第179-181页
声明第181-182页
致谢第182页

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