摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第1章 绪论 | 第8-11页 |
·电磁干扰及其危害 | 第8-9页 |
·研究现状和课题来源 | 第9-10页 |
·主要内容和章节安排 | 第10-11页 |
第2章 理论基础 | 第11-26页 |
·EMC概述 | 第11-13页 |
·EMC测试场地 | 第13-19页 |
·电磁屏蔽的理论和技术 | 第19-22页 |
·FDTD算法 | 第22-26页 |
第3章 GTEM Cell内场分布的计算和测量 | 第26-43页 |
·用FDTD法计算空的GTEM Cell内的场分布 | 第26-36页 |
·网格剖分和差分方程 | 第26-27页 |
·激励源 | 第27-28页 |
·边界条件 | 第28-29页 |
·计算参数和峰值检测 | 第29-32页 |
·计算过程 | 第32-35页 |
·计算结果 | 第35-36页 |
·GTEM Cell内场分布的测量 | 第36-39页 |
·计算放入金属DUT后的GTEM Cell内的场分布 | 第39-41页 |
·本章小结 | 第41-43页 |
第4章 利用GTEM Cell测量屏蔽效果的试验 | 第43-53页 |
·机箱电磁屏蔽的设计 | 第43-47页 |
·缝隙的屏蔽方法 | 第43-44页 |
·通风孔的屏蔽处理 | 第44-46页 |
·表头的屏蔽 | 第46页 |
·调节轴开口和引线开口的屏蔽 | 第46页 |
·显示器的屏蔽 | 第46-47页 |
·双层屏蔽 | 第47页 |
·利用GTEM Cell测量屏蔽效果的试验 | 第47-50页 |
·计算机机箱的屏蔽效果 | 第50页 |
·电缆屏蔽的影响 | 第50-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
结束语 | 第53-55页 |
致谢 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-60页 |
附录1 攻读学位期间发表的论文情况 | 第60-61页 |
附录2 计算程序 | 第61-62页 |
附录3 GTEM Cell网格划分所得i,j,k取值 | 第62-66页 |
附录4 放入DUT后k=98、111横截面上E_z的分布 | 第66-70页 |