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基于光控模块的多断口真空开关研究

第一章 绪论第1-32页
 1.1 引言第10-11页
 1.2 真空开关的发展与现状第11-15页
 1.3 高压真空间隙的绝缘特性第15-21页
  1.3.1 真空间隙的击穿机理第15-17页
  1.3.2 影响真空击穿的各种因素第17-20页
  1.3.3 真空击穿的概率统计特性第20-21页
 1.4 多断口真空开关技术的发展与研究现状第21-27页
  1.4.1 多真空间隙串联的静态绝缘特性第21-23页
  1.4.2 多断口真空开关的动态绝缘特性第23-25页
  1.4.3 多断口真空开关的操动机构及控制系统第25-27页
 1.5 本文主要研究内容和章节安排第27-28页
 参考文献第28-32页
第二章 多断口真空开关击穿特性理论分析第32-47页
 2.1 引言第32页
 2.2 多断口真空开关的弧后介质恢复分析第32-37页
  2.2.1 双断口真空开关的等值模型第33-34页
  2.2.2 弧后介质恢复过程第34-35页
  2.2.3 多断口真空开关的弧后介质恢复过程分析第35-37页
 2.3 多断口真空开关的击穿电压增益第37-38页
 2.4 静态击穿统计特性的理论分析第38-41页
  2.4.1 电场应力的描述—X参数第38-39页
  2.4.2 静态击穿统计分布模型第39-41页
 2.5 弧后重击穿统计特性理论分析第41-43页
 2.6 电场应力X的物理意义第43页
 2.7 本章总结第43-45页
 参考文献第45-47页
第三章 光控模块式真空开关单元的研究第47-67页
 3.1 引言第47-48页
 3.2 光控模块式真空开关单元的结构设计第48-49页
 3.3 电子操动系统第49-55页
  3.3.1 永磁操动机构第50-53页
  3.3.2 模块电子控制系统第53-54页
  3.3.3 光纤控制技术第54-55页
 3.4 模块电源系统第55-62页
 3.5 电磁兼容与可靠性设计第62-64页
 3.6 本章总结第64-65页
 参考文献第65-67页
第四章 基于光控模块的多断口真空开关及其电场优化设计第67-91页
 4.1 引言第67页
 4.2 基于光控模块的多断口真空开关第67-68页
 4.3 用ANSYS求解电磁场第68-72页
 4.4 FCVIM中真空灭弧室的电场计算第72-77页
  4.4.1 计算模型第72-73页
  4.4.2 计算方法第73-75页
  4.4.3 真空灭弧室三维电场及自电容计算结果第75-77页
 4.5 基于FCVIM的双断口真空开关的电场计算第77-81页
  4.5.1 计算模型第77-78页
  4.5.2 计算结果及分析第78-81页
 4.6 基于FCVIM的三断口真空开关的电场设计第81-88页
  4.6.1 几种计算模型第81-82页
  4.6.2 对比计算结果及分析第82-86页
  4.6.3 电场优化设计结果分析第86-88页
 4.7 本章总结第88-89页
 参考文献第89-91页
第五章 光控模块式真空开关单元模型的特性实验研究第91-108页
 5.1 引言第91页
 5.2 三断口真空开关模型第91-92页
 5.3 静态击穿电压试验回路第92-94页
 5.4 静态击穿电压试验结果第94-96页
 5.5 静态击穿电压增益特性实验研究第96-101页
  5.5.1 三断口真空开关模型的电压分布特性第96-97页
  5.5.2 工频电压下的击穿电压特性第97-98页
  5.5.3 冲击电压下的击穿电压增益特性第98-101页
 5.6 静态击穿统计特性的实验研究第101-103页
  5.6.1 单个真空灭弧室模型的静态击穿统计特性实验研究第101-102页
  5.6.2 三断口真空开关模型的静态击穿统计特性实验研究第102-103页
 5.7 FCVIM控制精度的实验第103-105页
 5.8 本章总结第105-107页
 参考文献第107-108页
全文总结第108-111页
创新点摘要第111-112页
附录:作者在攻读博士学位期间的论文发表情况第112-114页
致谢第114-115页

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