第一章 绪论 | 第1-32页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 真空开关的发展与现状 | 第11-15页 |
1.3 高压真空间隙的绝缘特性 | 第15-21页 |
1.3.1 真空间隙的击穿机理 | 第15-17页 |
1.3.2 影响真空击穿的各种因素 | 第17-20页 |
1.3.3 真空击穿的概率统计特性 | 第20-21页 |
1.4 多断口真空开关技术的发展与研究现状 | 第21-27页 |
1.4.1 多真空间隙串联的静态绝缘特性 | 第21-23页 |
1.4.2 多断口真空开关的动态绝缘特性 | 第23-25页 |
1.4.3 多断口真空开关的操动机构及控制系统 | 第25-27页 |
1.5 本文主要研究内容和章节安排 | 第27-28页 |
参考文献 | 第28-32页 |
第二章 多断口真空开关击穿特性理论分析 | 第32-47页 |
2.1 引言 | 第32页 |
2.2 多断口真空开关的弧后介质恢复分析 | 第32-37页 |
2.2.1 双断口真空开关的等值模型 | 第33-34页 |
2.2.2 弧后介质恢复过程 | 第34-35页 |
2.2.3 多断口真空开关的弧后介质恢复过程分析 | 第35-37页 |
2.3 多断口真空开关的击穿电压增益 | 第37-38页 |
2.4 静态击穿统计特性的理论分析 | 第38-41页 |
2.4.1 电场应力的描述—X参数 | 第38-39页 |
2.4.2 静态击穿统计分布模型 | 第39-41页 |
2.5 弧后重击穿统计特性理论分析 | 第41-43页 |
2.6 电场应力X的物理意义 | 第43页 |
2.7 本章总结 | 第43-45页 |
参考文献 | 第45-47页 |
第三章 光控模块式真空开关单元的研究 | 第47-67页 |
3.1 引言 | 第47-48页 |
3.2 光控模块式真空开关单元的结构设计 | 第48-49页 |
3.3 电子操动系统 | 第49-55页 |
3.3.1 永磁操动机构 | 第50-53页 |
3.3.2 模块电子控制系统 | 第53-54页 |
3.3.3 光纤控制技术 | 第54-55页 |
3.4 模块电源系统 | 第55-62页 |
3.5 电磁兼容与可靠性设计 | 第62-64页 |
3.6 本章总结 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-67页 |
第四章 基于光控模块的多断口真空开关及其电场优化设计 | 第67-91页 |
4.1 引言 | 第67页 |
4.2 基于光控模块的多断口真空开关 | 第67-68页 |
4.3 用ANSYS求解电磁场 | 第68-72页 |
4.4 FCVIM中真空灭弧室的电场计算 | 第72-77页 |
4.4.1 计算模型 | 第72-73页 |
4.4.2 计算方法 | 第73-75页 |
4.4.3 真空灭弧室三维电场及自电容计算结果 | 第75-77页 |
4.5 基于FCVIM的双断口真空开关的电场计算 | 第77-81页 |
4.5.1 计算模型 | 第77-78页 |
4.5.2 计算结果及分析 | 第78-81页 |
4.6 基于FCVIM的三断口真空开关的电场设计 | 第81-88页 |
4.6.1 几种计算模型 | 第81-82页 |
4.6.2 对比计算结果及分析 | 第82-86页 |
4.6.3 电场优化设计结果分析 | 第86-88页 |
4.7 本章总结 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-91页 |
第五章 光控模块式真空开关单元模型的特性实验研究 | 第91-108页 |
5.1 引言 | 第91页 |
5.2 三断口真空开关模型 | 第91-92页 |
5.3 静态击穿电压试验回路 | 第92-94页 |
5.4 静态击穿电压试验结果 | 第94-96页 |
5.5 静态击穿电压增益特性实验研究 | 第96-101页 |
5.5.1 三断口真空开关模型的电压分布特性 | 第96-97页 |
5.5.2 工频电压下的击穿电压特性 | 第97-98页 |
5.5.3 冲击电压下的击穿电压增益特性 | 第98-101页 |
5.6 静态击穿统计特性的实验研究 | 第101-103页 |
5.6.1 单个真空灭弧室模型的静态击穿统计特性实验研究 | 第101-102页 |
5.6.2 三断口真空开关模型的静态击穿统计特性实验研究 | 第102-103页 |
5.7 FCVIM控制精度的实验 | 第103-105页 |
5.8 本章总结 | 第105-107页 |
参考文献 | 第107-108页 |
全文总结 | 第108-111页 |
创新点摘要 | 第111-112页 |
附录:作者在攻读博士学位期间的论文发表情况 | 第112-114页 |
致谢 | 第114-115页 |