NbN薄膜的制备及等离子体诊断
| 1 前言 | 第1-14页 |
| ·微波ECR等离子体源 | 第9页 |
| ·表面制备技术 | 第9-12页 |
| ·溅射技术 | 第10页 |
| ·溅射方法 | 第10-12页 |
| ·本论文的目的以及主要工作 | 第12-14页 |
| 2 朗缪尔探针诊断 | 第14-22页 |
| ·实验设备 | 第14-15页 |
| ·朗缪尔探针 | 第15-21页 |
| ·探针诊断的必要性 | 第15页 |
| ·朗缪尔探针的工作原理 | 第15-16页 |
| ·由单探针Ⅰ-Ⅴ特性曲线获取等离子体参数 | 第16-17页 |
| ·本系统等离子体特性诊断 | 第17-21页 |
| ·小结 | 第21-22页 |
| 3 发射光谱(OES)诊断 | 第22-27页 |
| ·发射光谱与实验装置 | 第22-23页 |
| ·光谱分析 | 第23-25页 |
| ·小结 | 第25-27页 |
| 4 实验工艺与表征方法 | 第27-29页 |
| ·实验工艺和参数设定 | 第27页 |
| ·工艺流程 | 第27-28页 |
| ·薄膜结构与性能的表征方法 | 第28-29页 |
| 5 调整N_2流量对薄膜的影响 | 第29-43页 |
| ·晶体结构 | 第29-31页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第30-31页 |
| ·薄膜沉积速率 | 第31-32页 |
| ·表面形貌与薄膜成分 | 第32-34页 |
| ·微观形貌和表面粗糙度 | 第34-37页 |
| ·微观形貌 | 第34-36页 |
| ·均方根粗糙度 | 第36-37页 |
| ·硬度 | 第37-38页 |
| ·磨损测试 | 第38-41页 |
| ·磨损与磨痕形貌 | 第38-40页 |
| ·摩擦系数 | 第40-41页 |
| ·电化学腐蚀 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 6 基片偏压对薄膜的影响 | 第43-53页 |
| ·晶体结构 | 第43-44页 |
| ·薄膜沉积速率 | 第44页 |
| ·表面形貌与薄膜成分 | 第44-46页 |
| ·微观形貌和表面粗糙度 | 第46-49页 |
| ·微观形貌 | 第46-49页 |
| ·均方根粗糙度 | 第49页 |
| ·硬度 | 第49-50页 |
| ·磨损测试 | 第50-51页 |
| ·磨损与磨痕形貌 | 第50-51页 |
| ·摩擦系数 | 第51页 |
| ·电化学腐蚀 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 7 总结与展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 已发表论文 | 第59-61页 |
