液相沉积法制备TiO2薄膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 前言 | 第10-13页 |
| 第一章 概述 | 第13-29页 |
| ·TiO_2的晶体结构 | 第13-15页 |
| ·TiO_2三种晶相的物理性质对比 | 第15-17页 |
| ·TiO_2的XRD分析 | 第17-18页 |
| ·TiO_2的光催化机理 | 第18-22页 |
| ·TiO_2的能带结构 | 第18-21页 |
| ·光催化剂与反应物的表面结合态 | 第21-22页 |
| ·TiO_2的超亲水性性机理 | 第22-23页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第23-27页 |
| ·液相沉积法制备纳米TiO_2薄膜简介 | 第23-24页 |
| ·溶胶-凝胶法制备纳米TiO_2薄膜 | 第24页 |
| ·化学气相沉积法制备纳米TiO_2薄膜 | 第24-25页 |
| ·热分解法制备TiO_2薄膜 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射法制备纳米TiO_2薄膜 | 第26-27页 |
| ·选题依据 | 第27-29页 |
| 第二章 实验过程 | 第29-34页 |
| ·实验材料与仪器 | 第29-30页 |
| ·实验材料 | 第29页 |
| ·实验所用仪器和设备 | 第29-30页 |
| ·实验过程 | 第30-34页 |
| ·氟钛酸铵的制备 | 第30页 |
| ·沉积液的制备 | 第30-31页 |
| ·基片的清洗 | 第31页 |
| ·薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·TiO_2沉淀的回收 | 第32页 |
| ·TiO_2薄膜及粉末的热处理 | 第32页 |
| ·薄膜及粉末的检测 | 第32页 |
| ·TiO_2薄膜及其粉末的光催化实验 | 第32-33页 |
| ·薄膜光诱导超亲水性实验 | 第33-34页 |
| 第三章 基片表面处理 | 第34-39页 |
| ·基片表面处理的重要性 | 第34页 |
| ·表面沾污的种类和本质 | 第34-35页 |
| ·表面沾污的种类 | 第34页 |
| ·基片表面沾污的本质 | 第34-35页 |
| ·基片化学清洗的原理 | 第35-36页 |
| ·有机溶剂在清洗中的作用 | 第35页 |
| ·无机酸和过氧化氢的强氧化性及其在清洗中的作用 | 第35-36页 |
| ·酸、碱性过氧化氢清洗液清洗方法的化学原理 | 第36-38页 |
| ·碱性过氧化氢清洗液中氢氧化铵的作用 | 第36-37页 |
| ·酸性过氧化氢清洗液中盐酸的作用 | 第37-38页 |
| ·超声波在清洗中的作用 | 第38-39页 |
| 第四章 液相沉积薄膜的研究 | 第39-60页 |
| ·沉积反应的基本过程 | 第39-40页 |
| ·薄膜生成的基本过程 | 第40页 |
| ·沉积透明性TiO_2薄膜的条件分析 | 第40-44页 |
| ·沉积透明性TiO_2薄膜的浓度条件 | 第40-42页 |
| ·沉积透明性TiO_2薄膜的温度条件 | 第42-44页 |
| ·沉积透明性TiO_2薄膜的时间条件 | 第44页 |
| ·液相沉积薄膜的影响因素分析 | 第44-50页 |
| ·沉积液浓度对薄膜的影响 | 第44页 |
| ·温度对薄膜的影响 | 第44-49页 |
| ·基片表面对薄膜的影响 | 第49-50页 |
| ·薄膜的超亲水特性 | 第50-56页 |
| ·表面的润湿过程 | 第50-51页 |
| ·接触角与润湿方程 | 第51-52页 |
| ·液相沉积薄膜的亲水性及其亲水机理 | 第52-56页 |
| ·TiO_2沉积薄膜的光催化性 | 第56-60页 |
| 第五章 反应沉淀物-TiO_2粉末的研究 | 第60-67页 |
| ·液相沉积反应所得的TiO_2粉末XRD图谱 | 第60-64页 |
| ·TiO_2粉末的形貌及能谱分析 | 第64-66页 |
| ·TiO_2粉末的光催化性 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 附录A(攻读学位期间发表论文) | 第72页 |
