| 第一章 前言 | 第1-27页 |
| 第一节 基因芯片的研究现状 | 第9-19页 |
| 1 基因芯片的制备 | 第10-17页 |
| 1．1 点样法 | 第10页 |
| 1．2 原位合成法 | 第10-17页 |
| 1．2．1 光脱保护法 | 第11-12页 |
| 1．2．2 喷印合成法 | 第12-13页 |
| 1．2．3 光致酸合成法 | 第13页 |
| 1．2．4 电喷雾合成法 | 第13-14页 |
| 1．2．5 虚拟掩模法 | 第14页 |
| 1．2．6 分子印章压印法 | 第14-17页 |
| 2 基因芯片的结果分析 | 第17-19页 |
| 2．1 同位素标记法 | 第17-18页 |
| 2．2 荧光分析法 | 第18-19页 |
| 2．3 纳米粒子标记法 | 第19页 |
| 第二节 本论文的指导思想 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-27页 |
| 第二章 聚丙烯微孔膜的等离子体处理改性 | 第27-40页 |
| 第一节 材料和实验方法 | 第28-31页 |
| 1 仪器、材料与试剂 | 第28-29页 |
| 2 微孔膜的清洗 | 第29页 |
| 3 等离子体修饰 | 第29-30页 |
| 4 表征方法 | 第30页 |
| 5 寡核苷酸的原位合成 | 第30页 |
| 6 寡核苷酸原位合成的后处理 | 第30-31页 |
| 第二节 膜的等离子体处理条件优化及表征 | 第31-35页 |
| 1 等离子体处理条件对氨基接枝的影响 | 第31-32页 |
| 2 SEM分析 | 第32页 |
| 3 红外光谱分析 | 第32-33页 |
| 4 XPS分析 | 第33-34页 |
| 5 紫外吸收光谱 | 第34-35页 |
| 第三节 等离子体处理微孔膜上的寡核苷酸合成 | 第35-36页 |
| 第四节 小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-40页 |
| 第三章 聚四氟乙烯的等离子体处理改性 | 第40-54页 |
| 第一节 材料和实验方法 | 第40-44页 |
| 1 仪器、材料与试剂 | 第40-42页 |
| 2 聚四氟乙烯片的清洗 | 第42页 |
| 3 等离子体修饰 | 第42页 |
| 4 表征方法 | 第42-43页 |
| 5 等离子体处理聚四氟乙烯片表面手臂分子的联接 | 第43页 |
| 6 寡核苷酸的原位合成 | 第43页 |
| 7 寡核苷酸原位合成的后处理 | 第43页 |
| 8 杂交与检测 | 第43-44页 |
| 第二节 等离子体处理条件优化 | 第44-48页 |
| 1 等离子体处理条件对接触角的影响 | 第44-46页 |
| 2 XPS分析 | 第46-47页 |
| 3 紫外吸收光谱 | 第47-48页 |
| 第三节 等离子体处理改性聚四氟乙烯上的寡核苷酸合成 | 第48-52页 |
| 1 等离子体处理聚四氟乙烯上原位合成偶联效率 | 第48-49页 |
| 2 杂交分析 | 第49-52页 |
| 第四节 小结 | 第52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第四章 时间分辨荧光配合物的合成和表征 | 第54-67页 |
| 第一节 材料和实验方法 | 第56-58页 |
| 1 仪器、材料与试剂 | 第56-57页 |
| 2 BCPDA的合成 | 第57页 |
| 2．1 合成路线 | 第57页 |
| 2．2 实验步骤 | 第57页 |
| 3 表征方法 | 第57-58页 |
| 4 液相荧光光谱的测定 | 第58页 |
| 5 固相荧光的测定 | 第58页 |
| 6 时间分辨荧光的测定 | 第58页 |
| 第二节 BCPDA的合成 | 第58-61页 |
| 1 合成条件优化及产率 | 第59页 |
| 2 样品表征 | 第59-61页 |
| 2．1 产物熔点 | 第59-60页 |
| 2．2 元素分析 | 第60页 |
| 2．3 红外光谱 | 第60-61页 |
| 2．4 核磁共振图谱 | 第61页 |
| 第三节 BCPDA的荧光分析 | 第61-64页 |
| 1 液相荧光光谱测定 | 第61-62页 |
| 2 固相荧光的测定 | 第62-63页 |
| 3 时间分辨荧光测定 | 第63-64页 |
| 第四节 小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第五章 结论 | 第67-69页 |
| 图表目录 | 第69-71页 |
| 发表论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |