二氧化钒粉体和薄膜的制备工艺研究
| 目录 | 第1-7页 |
| 图目录 | 第7-9页 |
| 表目录 | 第9-10页 |
| 摘要 | 第10-11页 |
| ABSTRACT | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·二氧化钒的结构和典型性质 | 第12-15页 |
| ·二氧化钒的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·二氧化钒的能带结构 | 第14页 |
| ·二氧化钒的典型特性 | 第14-15页 |
| ·二氧化钒粉体的制备研究现状 | 第15-20页 |
| ·纯二氧化钒粉体制备技术的研究进展 | 第16-18页 |
| ·掺杂二氧化钒粉体的制备研究进展 | 第18-20页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备技术研究进展 | 第20-23页 |
| ·溶胶—凝胶(Sol-Gel)工艺 | 第20页 |
| ·金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD) | 第20-21页 |
| ·真空蒸镀法 | 第21-22页 |
| ·溅射法 | 第22页 |
| ·其他工艺 | 第22-23页 |
| ·二氧化钒的应用前景 | 第23-25页 |
| ·军用方面 | 第23-24页 |
| ·民用方面 | 第24-25页 |
| ·本文研究的主要目标和技术方案 | 第25-27页 |
| ·二氧化钒粉体的制备 | 第25-26页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第二章 二氧化钒粉体的制备和表征 | 第28-47页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验方法 | 第28-32页 |
| ·实验材料 | 第28-29页 |
| ·实验设备 | 第29页 |
| ·二氧化钒粉体的制备 | 第29-31页 |
| ·实验设计 | 第31-32页 |
| ·粉体的测试分析方法及设备 | 第32-33页 |
| ·差热分析 | 第32页 |
| ·结构分析 | 第32页 |
| ·形貌分析 | 第32页 |
| ·电阻-温度特性测试 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-46页 |
| ·前驱体的结构表征 | 第33-34页 |
| ·制备工艺对二氧化钒粉体生成的影响 | 第34-43页 |
| ·二氧化钒的扫描电镜(SEM)分析 | 第43-44页 |
| ·二氧化钒粉体的相变温度研究 | 第44页 |
| ·二氧化钒粉体的电学特性 | 第44-45页 |
| ·二氧化钒粉体稳定性的研究 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 第三章 掺杂二氧化钒粉体的制备研究 | 第47-58页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·实验方法 | 第47-49页 |
| ·掺钨二氧化钒粉体的制备方法 | 第47-48页 |
| ·掺钨二氧化钒粉体的表征及光电性能测试 | 第48-49页 |
| ·实验结果与讨论 | 第49-57页 |
| ·掺杂二氧化钒粉体的微观结构 | 第49-51页 |
| ·掺杂对二氧化钒相变温度的影响 | 第51-53页 |
| ·W含量对二氧化钒粉体电学性能的影响 | 第53-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第四章 磁控溅射制备二氧化钒薄膜 | 第58-73页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·实验方法 | 第58-64页 |
| ·实验设备 | 第58-59页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第59-60页 |
| ·二氧化钒薄膜制备工艺过程 | 第60-63页 |
| ·薄膜的电学性能测试和结构表征 | 第63-64页 |
| ·实验结果和讨论 | 第64-72页 |
| ·二氧化钒陶瓷靶材的结构表征和形貌分析 | 第64-67页 |
| ·真空热处理温度对二氧化钒薄膜性能的影响 | 第67-70页 |
| ·热处理时间对二氧化钒薄膜性能的影响 | 第70-71页 |
| ·其他工艺参数对二氧化钒薄膜性能的影响 | 第71-72页 |
| ·二氧化钒薄膜的电阻特性 | 第72页 |
| ·小结 | 第72-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 附录1 作者在学期间取得的学术成果 | 第79-80页 |
| 附录2 XRD分析所用到的PCPDF标准卡片 | 第80-84页 |
