反应磁控溅射制备AlN薄膜及其发光性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-30页 |
| ·AlN薄膜概述 | 第15-17页 |
| ·AlN结构与特性 | 第15-16页 |
| ·AlN薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·AlN薄膜的应用 | 第17页 |
| ·反应磁控溅射原理 | 第17-22页 |
| ·溅射 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射 | 第19-20页 |
| ·反应溅射 | 第20-21页 |
| ·中频溅射 | 第21-22页 |
| ·反应溅射制备AlN薄膜存在问题 | 第22页 |
| ·薄膜发光 | 第22-28页 |
| ·发光物理过程 | 第22-23页 |
| ·薄膜电致发光 | 第23-27页 |
| ·薄膜电致发光存在问题 | 第27-28页 |
| ·本论文的研究内容及安排 | 第28-30页 |
| 第2章 反应磁控溅射制备AlN薄膜工艺研究 | 第30-47页 |
| ·溅射装置 | 第30-31页 |
| ·实验操作步骤及制备条件 | 第31-32页 |
| ·基片的清洗 | 第31页 |
| ·薄膜沉积 | 第31-32页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第32-33页 |
| ·靶材的溅射 | 第32页 |
| ·溅射粒子的迁移过程 | 第32-33页 |
| ·溅射粒子的成膜过程 | 第33页 |
| ·AlN薄膜结构分析 | 第33-35页 |
| ·X射线分析方法 | 第33-34页 |
| ·AlN薄膜X射线衍射谱 | 第34-35页 |
| ·AlN薄膜形貌分析 | 第35-36页 |
| ·表面平整度分析AFM | 第35-36页 |
| ·表面形貌图 | 第36页 |
| ·AlN薄膜的组成 | 第36-37页 |
| ·AlN薄膜的光学性质 | 第37-46页 |
| ·基本理论 | 第38-40页 |
| ·制备条件对光学性能的影响 | 第40-46页 |
| ·本章小节 | 第46-47页 |
| 第3章 反应磁控溅射制备AlN薄膜的稳态特性 | 第47-73页 |
| ·数学模型 | 第49-54页 |
| ·模型假设 | 第49-50页 |
| ·模型方程 | 第50-54页 |
| ·实验与计算方法 | 第54-55页 |
| ·实验和模拟结果比较 | 第55页 |
| ·外部参数对过程的影响 | 第55-64页 |
| ·电流恒定,流量变化 | 第56-58页 |
| ·流量恒定,电压变化 | 第58-60页 |
| ·流量恒定,电流变化 | 第60-62页 |
| ·流量恒定,功率变化 | 第62-64页 |
| ·迟滞现象消除方法的探讨 | 第64-72页 |
| ·控制反应气体分压 | 第65-66页 |
| ·增大真空泵抽速 | 第66-68页 |
| ·减小靶面积 | 第68-69页 |
| ·增加靶基距 | 第69-72页 |
| ·本章小节 | 第72-73页 |
| 第4章 反应磁控溅射制备AlN薄膜的动态特性 | 第73-92页 |
| ·模型的建立 | 第73-75页 |
| ·动态特性及实验验证 | 第75-78页 |
| ·外部参数对动态过程的影响 | 第78-83页 |
| ·消除弧光的条件 | 第83-91页 |
| ·本章小节 | 第91-92页 |
| 第5章 Mn或Cu掺杂AlN薄膜制备及其发光特性 | 第92-106页 |
| ·AlN薄膜发光性能研究进展 | 第93-97页 |
| ·红色 | 第93-94页 |
| ·绿色 | 第94-96页 |
| ·蓝色 | 第96页 |
| ·白色 | 第96-97页 |
| ·Mn掺杂AlN薄膜制备及其发光特性 | 第97-102页 |
| ·Mn掺杂AlN薄膜的制备 | 第97页 |
| ·Mn掺杂AlN薄膜的组成和结构 | 第97-98页 |
| ·Mn掺杂AlN薄膜的发光特性 | 第98-102页 |
| ·Cu掺杂AlN薄膜制备及其发光特性 | 第102-105页 |
| ·Cu掺杂AlN薄膜的制备 | 第102页 |
| ·Cu掺杂AlN薄膜的结构和组成 | 第102-104页 |
| ·Cu掺杂AlN薄膜的发光特性 | 第104-105页 |
| ·本章小节 | 第105-106页 |
| 第6章 结论 | 第106-108页 |
| 参考文献 | 第108-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 博士期间发表论文情况 | 第118-119页 |
| 个人简历 | 第119页 |
