摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
·聚碳酸酯材料的特性及应用 | 第11-13页 |
·聚碳酸酯材料的特性 | 第11页 |
·聚碳酸酯材料的应用 | 第11-13页 |
·类金刚石薄膜的结构及性质 | 第13-14页 |
·类金刚石薄膜的结构 | 第13-14页 |
·类金刚石薄膜的性质 | 第14页 |
·类金刚石薄膜在PC材料表面改性方面的应用 | 第14-16页 |
·光盘 | 第14-15页 |
·医学领域 | 第15页 |
·光学领域 | 第15-16页 |
·其他领域 | 第16页 |
·在聚碳酸酯材料上制备DLC薄膜的主要沉积方法及研究进展 | 第16-20页 |
·物理气相沉积方法 | 第16-18页 |
·化学气相沉积方法 | 第18-20页 |
·研究的目的和内容 | 第20页 |
·本章小结 | 第20-21页 |
第二章 类金刚石薄膜的制备方法 | 第21-34页 |
·射频磁控溅射方法制备DLC | 第21-27页 |
·射频磁控溅射方法基本原理 | 第21-22页 |
·射频磁控溅射中DLC膜形成过程 | 第22-23页 |
·实验设备 | 第23页 |
·工艺流程 | 第23-25页 |
·工艺参数 | 第25-27页 |
·RF-PECVD方法制备DLC | 第27-33页 |
·RF-PECVD方法基本原理 | 第27-28页 |
·RF-PECVD方法DLC薄膜形成过程 | 第28-29页 |
·实验设备 | 第29-30页 |
·工艺流程 | 第30-32页 |
·工艺参数 | 第32-33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
第三章 类金刚石薄膜的结构分析和形貌表征 | 第34-50页 |
·结构分析 | 第34-47页 |
·X射线衍射谱(XRD) | 第34-36页 |
·拉曼光谱(Raman) | 第36-42页 |
·Raman光谱的高斯分解 | 第37-40页 |
·数据比较与讨论 | 第40-42页 |
·X射线光电子能谱(XPS) | 第42-47页 |
·XPS光谱分析 | 第43页 |
·C1sXPS峰位分析 | 第43-44页 |
·C1sXPS峰位高斯分解 | 第44-46页 |
·sp~3与sp~2键组分的计算 | 第46-47页 |
·表面形貌 | 第47-48页 |
·小结 | 第48-50页 |
第四章 类金刚石薄膜机械性能研究 | 第50-71页 |
·膜厚与表面粗糙度测量 | 第50-54页 |
·测试设备 | 第50-51页 |
·设备简介 | 第50页 |
·TR200粗糙度参数定义 | 第50-51页 |
·膜厚的测量 | 第51-52页 |
·表面粗糙度的测量 | 第52-54页 |
·DLC膜的摩擦学特性 | 第54-64页 |
·摩擦系数的测定 | 第55-60页 |
·RF-PFCVD沉积工艺参数对摩擦系数的影响 | 第55-58页 |
·射频磁控溅射沉积工艺参数对摩擦系数的影响 | 第58-60页 |
·耐磨损性能 | 第60-64页 |
·入射功率对耐磨损性的影响 | 第61页 |
·不同过渡层对耐磨损性的影响 | 第61-64页 |
·DLC薄膜的硬度表征 | 第64-70页 |
·铅笔硬度表征 | 第64页 |
·纳米压痕仪(Nanoindentation)硬度分析 | 第64-70页 |
·纳米硬度测试的基本原理 | 第65-66页 |
·实验结果及讨论 | 第66-70页 |
·耐腐蚀性能测试 | 第70页 |
·本章小结 | 第70-71页 |
第五章 类金刚石薄膜光学特性 | 第71-79页 |
·透射率的测定—可见-紫外分光光度计 | 第71-72页 |
·紫外光谱区透射率 | 第72-74页 |
·普通树脂镜片基底 | 第72-73页 |
·PC太空镜片基底 | 第73-74页 |
·可见光谱区透射率 | 第74-78页 |
·RF-PECVD制备方法 | 第74-76页 |
·射频入射功率的影响 | 第74页 |
·Ar/CH_4气体流量比的影响 | 第74-75页 |
·过渡层的影响 | 第75-76页 |
·沉积时间的影响 | 第76页 |
·磁控溅射制备方法 | 第76-78页 |
·射频入射功率的影响 | 第77页 |
·直流负偏压的影响 | 第77-78页 |
·本章小结 | 第78-79页 |
第六章 结论与建议 | 第79-81页 |
·结论 | 第79-80页 |
·建议 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
硕士期间发表论文 | 第86页 |