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聚碳酸酯(PC)上沉积类金刚石膜的性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 绪论第11-21页
   ·聚碳酸酯材料的特性及应用第11-13页
     ·聚碳酸酯材料的特性第11页
     ·聚碳酸酯材料的应用第11-13页
   ·类金刚石薄膜的结构及性质第13-14页
     ·类金刚石薄膜的结构第13-14页
     ·类金刚石薄膜的性质第14页
   ·类金刚石薄膜在PC材料表面改性方面的应用第14-16页
     ·光盘第14-15页
     ·医学领域第15页
     ·光学领域第15-16页
     ·其他领域第16页
   ·在聚碳酸酯材料上制备DLC薄膜的主要沉积方法及研究进展第16-20页
     ·物理气相沉积方法第16-18页
     ·化学气相沉积方法第18-20页
   ·研究的目的和内容第20页
   ·本章小结第20-21页
第二章 类金刚石薄膜的制备方法第21-34页
   ·射频磁控溅射方法制备DLC第21-27页
     ·射频磁控溅射方法基本原理第21-22页
     ·射频磁控溅射中DLC膜形成过程第22-23页
     ·实验设备第23页
     ·工艺流程第23-25页
     ·工艺参数第25-27页
   ·RF-PECVD方法制备DLC第27-33页
     ·RF-PECVD方法基本原理第27-28页
     ·RF-PECVD方法DLC薄膜形成过程第28-29页
     ·实验设备第29-30页
     ·工艺流程第30-32页
     ·工艺参数第32-33页
   ·本章小结第33-34页
第三章 类金刚石薄膜的结构分析和形貌表征第34-50页
   ·结构分析第34-47页
     ·X射线衍射谱(XRD)第34-36页
     ·拉曼光谱(Raman)第36-42页
       ·Raman光谱的高斯分解第37-40页
       ·数据比较与讨论第40-42页
     ·X射线光电子能谱(XPS)第42-47页
       ·XPS光谱分析第43页
       ·C1sXPS峰位分析第43-44页
       ·C1sXPS峰位高斯分解第44-46页
       ·sp~3与sp~2键组分的计算第46-47页
   ·表面形貌第47-48页
   ·小结第48-50页
第四章 类金刚石薄膜机械性能研究第50-71页
   ·膜厚与表面粗糙度测量第50-54页
     ·测试设备第50-51页
       ·设备简介第50页
       ·TR200粗糙度参数定义第50-51页
     ·膜厚的测量第51-52页
     ·表面粗糙度的测量第52-54页
   ·DLC膜的摩擦学特性第54-64页
     ·摩擦系数的测定第55-60页
       ·RF-PFCVD沉积工艺参数对摩擦系数的影响第55-58页
       ·射频磁控溅射沉积工艺参数对摩擦系数的影响第58-60页
     ·耐磨损性能第60-64页
       ·入射功率对耐磨损性的影响第61页
       ·不同过渡层对耐磨损性的影响第61-64页
   ·DLC薄膜的硬度表征第64-70页
     ·铅笔硬度表征第64页
     ·纳米压痕仪(Nanoindentation)硬度分析第64-70页
       ·纳米硬度测试的基本原理第65-66页
       ·实验结果及讨论第66-70页
   ·耐腐蚀性能测试第70页
   ·本章小结第70-71页
第五章 类金刚石薄膜光学特性第71-79页
   ·透射率的测定—可见-紫外分光光度计第71-72页
   ·紫外光谱区透射率第72-74页
     ·普通树脂镜片基底第72-73页
     ·PC太空镜片基底第73-74页
   ·可见光谱区透射率第74-78页
     ·RF-PECVD制备方法第74-76页
       ·射频入射功率的影响第74页
       ·Ar/CH_4气体流量比的影响第74-75页
       ·过渡层的影响第75-76页
       ·沉积时间的影响第76页
     ·磁控溅射制备方法第76-78页
       ·射频入射功率的影响第77页
       ·直流负偏压的影响第77-78页
   ·本章小结第78-79页
第六章 结论与建议第79-81页
   ·结论第79-80页
   ·建议第80-81页
参考文献第81-85页
致谢第85-86页
硕士期间发表论文第86页

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