| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·纳米技术与纳米材料概述 | 第9-12页 |
| ·纳米技术 | 第9-10页 |
| ·纳米材料 | 第10-12页 |
| ·在纳米基础上开发功能性纺织材料 | 第12-14页 |
| ·功能性纳米薄膜概述 | 第12-13页 |
| ·功能性纳米薄膜的制备 | 第13页 |
| ·功能性ZnO 纳米薄膜概述 | 第13-14页 |
| ·功能性纳米结构镀层的表征 | 第14页 |
| ·本课题研究的意义及国内外动态 | 第14-15页 |
| ·课题研究的主要工作进程 | 第15-17页 |
| 第二章 直流反应磁控溅射制备纳米ZNO 功能性薄膜 | 第17-22页 |
| ·制备功能性薄膜的设备及其工作原理 | 第17-18页 |
| ·实验所用设备简介 | 第17页 |
| ·磁控溅射镀膜原理及其特点 | 第17-18页 |
| ·功能性薄膜的制备 | 第18-21页 |
| ·实验准备 | 第18-19页 |
| ·等离子处理基材 | 第19页 |
| ·薄膜制备方法的选择 | 第19页 |
| ·制备ZnO 功能性薄膜的实验方案 | 第19-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 对直流反应制备的功能性薄膜的成分分析 | 第22-25页 |
| ·EDX 和XRD 的工作原理及所用仪器介绍 | 第22-23页 |
| ·EDX 的基本工作原理及所用仪器介绍 | 第22页 |
| ·XRD 的工作原理及所用仪器介绍 | 第22-23页 |
| ·EDX 进行试样元素组成分析及结果 | 第23页 |
| ·XRD 进行试样成分分析及结果 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第四章 纳米ZNO 功能性薄膜的微观结构分析 | 第25-38页 |
| ·AFM 和SEM 的工作原理及所用仪器介绍 | 第25-27页 |
| ·AFM 的工作原理及所用仪器介绍 | 第25-26页 |
| ·SEM 的工作原理及所用仪器介绍 | 第26-27页 |
| ·AFM 对试样表面微观结构的分析及结果 | 第27-35页 |
| ·镀膜前后试样表面微观结构比较 | 第27页 |
| ·氧氩比对ZnO 薄膜微观结构的影响 | 第27-30页 |
| ·溅射功率对ZnO 薄膜微观结构的影响 | 第30-31页 |
| ·溅射压强对ZnO 薄膜微观结构的影响 | 第31-33页 |
| ·镀膜厚度对ZnO 薄膜微观结构的影响 | 第33-34页 |
| ·基材等离子处理前后试样表面的AFM 分析比较 | 第34-35页 |
| ·试样的SEM 分析及结果 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第五章 ZNO 薄膜与非织造布的界面结合情况研究 | 第38-43页 |
| ·表面镀膜的一般界面结合机理 | 第38-39页 |
| ·SEM 分析界面微观结构 | 第39-41页 |
| ·制样 | 第39-40页 |
| ·SEM 扫描结果与分析 | 第40-41页 |
| ·剥离实验 | 第41-42页 |
| ·试样制备 | 第41页 |
| ·实验结果与分析 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第六章 镀膜前后非织造布的光学性能和抗静电性能分析 | 第43-48页 |
| ·抗紫外线和抗静电性能测试所用仪器及实验原理介绍 | 第43-44页 |
| ·抗紫外线性能测试的仪器及实验原理介绍 | 第43页 |
| ·抗静电性能测试所用仪器及实验原理介绍 | 第43-44页 |
| ·试样的光学性能分析及结果 | 第44-46页 |
| ·不同膜厚制备的试样的光透射率比较 | 第44-45页 |
| ·不同氧分压制备的试样的光透射率比较 | 第45页 |
| ·等离子处理原样对镀膜后试样光透射率的影响 | 第45-46页 |
| ·试样的抗静电性能分析及结果 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第七章 结语 | 第48-50页 |
| ·论文总结 | 第48页 |
| ·存在的问题与不足 | 第48页 |
| ·课题展望 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第54页 |