| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 前言 | 第11-21页 |
| ·垢的分类 | 第11-12页 |
| ·颗粒污垢 | 第11页 |
| ·析晶污垢 | 第11页 |
| ·化学反应污垢 | 第11页 |
| ·腐蚀污垢 | 第11-12页 |
| ·生物污垢 | 第12页 |
| ·凝固污垢 | 第12页 |
| ·垢的危害 | 第12-14页 |
| ·常见物理控垢措施简介 | 第14-16页 |
| ·静电水处理技术 | 第14-15页 |
| ·磁场水处理技术 | 第15页 |
| ·电子水处理技术 | 第15页 |
| ·变频电磁场水处理技术 | 第15页 |
| ·超声波控垢技术 | 第15-16页 |
| ·常见化学控垢措施简介 | 第16-17页 |
| ·软化法 | 第16页 |
| ·离子交换树脂法 | 第16页 |
| ·化学清洗法 | 第16页 |
| ·投加阻垢剂 | 第16-17页 |
| ·静电水处理技术的国内外研究进展 | 第17-20页 |
| ·小结 | 第20-21页 |
| 第二章 分子动力学模拟简介 | 第21-34页 |
| ·前言 | 第21-22页 |
| ·分子动力学模拟的基本原理 | 第22-29页 |
| ·牛顿运动方程的数值解法 | 第23-26页 |
| ·分子动力学模拟的计算流程 | 第26-28页 |
| ·边界条件 | 第28-29页 |
| ·力场 | 第29-31页 |
| ·分子动力学模拟技术在水系统中的应用 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 Material Studio 简介 | 第34-43页 |
| ·Material Visualizer 模块 | 第34-36页 |
| ·构建方解石晶面 | 第34-35页 |
| ·测量结构信息 | 第35-36页 |
| ·Amorphous Cell 模块 | 第36页 |
| ·Discover 模块 | 第36-41页 |
| ·基本设置 | 第36-39页 |
| ·结构优化 | 第39-40页 |
| ·分子动力学模拟 | 第40-41页 |
| ·结果分析 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 温度对碳酸钙溶液结晶的影响 | 第43-50页 |
| ·前言 | 第43页 |
| ·模型的构建与模拟方法 | 第43-45页 |
| ·计算结果与讨论 | 第45-49页 |
| ·体系相互作用的平衡 | 第45-46页 |
| ·方解石晶面的吸附能 | 第46-47页 |
| ·自扩散系数 | 第47-49页 |
| ·结论 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 电场对碳酸钙溶液结晶的影响 | 第50-61页 |
| ·模型的构建与模拟方法 | 第50-51页 |
| ·模拟结果与讨论 | 第51-60页 |
| ·方解石晶面上成垢体系的平衡 | 第51-52页 |
| ·方解石晶面上的吸附能 | 第52-53页 |
| ·体系的对关联函数分析 | 第53-54页 |
| ·方解石晶面上的形变 | 第54-58页 |
| ·自扩散系数探讨 | 第58-59页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 铁(001)晶面上结垢过程的探讨 | 第61-73页 |
| ·温度对铁(001)晶面上结垢过程的影响 | 第61-64页 |
| ·模型的构建与计算方法 | 第61-62页 |
| ·计算结果与讨论 | 第62-64页 |
| ·静电处理对铁(001)晶面上碳酸钙溶液结晶的研究 | 第64-72页 |
| ·分子动力学计算与铁(001)晶面上成垢体系的平衡 | 第64-66页 |
| ·铁(001)晶面上的吸附能 | 第66-68页 |
| ·体系的对关联函数分析 | 第68-70页 |
| ·铁(001)晶面上的形变分析 | 第70-71页 |
| ·自扩散系数 | 第71-72页 |
| ·结论 | 第72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 结论与展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78页 |