| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 文献综述与选题依据 | 第11-40页 |
| ·化学机械抛光技术的产生、现状与发展趋势 | 第11-21页 |
| ·化学机械抛光工作原理及特点 | 第11-12页 |
| ·化学机械抛光技术的应用现状 | 第12-17页 |
| ·硅片CMP | 第12-13页 |
| ·介质层CMP | 第13-16页 |
| ·金属CMP | 第16-17页 |
| ·其他CMP | 第17页 |
| ·化学机械抛光技术的发展趋势 | 第17-21页 |
| ·固定研磨料-CMP(FA-CMP) | 第19页 |
| ·无磨料-CMP(AF-CMP) | 第19-20页 |
| ·电化学-CMP(ECMP) | 第20-21页 |
| ·化学机械抛光的去除机理 | 第21-27页 |
| ·CMP材料去除机理模型分类 | 第21-22页 |
| ·CMP去除机理的研究现状 | 第22-25页 |
| ·硅片CMP中的化学反应机理 | 第25-26页 |
| ·光学玻璃的抛光机理 | 第26-27页 |
| ·CeO_2复合磨料的制备研究进展 | 第27-32页 |
| ·液相反应法 | 第27-30页 |
| ·化学沉淀法 | 第27-28页 |
| ·水热法 | 第28页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第28-29页 |
| ·喷雾热解法 | 第29-30页 |
| ·微乳液法 | 第30页 |
| ·模板法 | 第30页 |
| ·固相反应法 | 第30-32页 |
| ·室温低热固相反应法 | 第31页 |
| ·机械化学反应法 | 第31-32页 |
| ·燃烧合成法和熔盐合成法 | 第32页 |
| ·CMP抛光浆料的发展现状与趋势 | 第32-37页 |
| ·CMP抛光浆料的概述 | 第32-34页 |
| ·CMP混合磨料浆料的应用研究 | 第34-35页 |
| ·CMP复合磨料浆料的应用研究 | 第35-36页 |
| ·CMP抛光浆料特性的调配及抛光性能的优化 | 第36-37页 |
| ·本研究的主要研究内容及意义 | 第37-40页 |
| ·立项依据和意义 | 第37-39页 |
| ·主要研究内容 | 第39-40页 |
| 第二章 Ce_(1-x)Ti_xO_2复合氧化物的制备与其光学玻璃抛光性能 | 第40-63页 |
| ·前言 | 第40-41页 |
| ·实验方法 | 第41-42页 |
| ·湿固机械化学法合成Ce_(1-x)Ti_xO_2 | 第41页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2的表征方法 | 第41-42页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2的玻璃抛光性能评价 | 第42页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2的湿固机械化学法制备与表征 | 第42-52页 |
| ·差热热重分析 | 第43-45页 |
| ·XRD分析 | 第45-48页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第48-50页 |
| ·SEM等分析 | 第50-51页 |
| ·表面电位、比表面积等分析 | 第51-52页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2的光学玻璃抛光性能 | 第52-62页 |
| ·焙烧温度对Ce_(0.8)Ti_(0.2)O_2的抛光速率影响 | 第52-55页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2中含钛量对抛光速率的影响 | 第55-57页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2的光学玻璃抛光性能的改善机理探讨 | 第57-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第三章 Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2复合磨料的制备及其光学玻璃抛光性能 | 第63-77页 |
| ·前言 | 第63-64页 |
| ·实验方法 | 第64-65页 |
| ·Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2复合氧化物的制备 | 第64-65页 |
| ·Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2复合氧化物的表征 | 第65页 |
| ·光学玻璃抛光性能评价 | 第65页 |
| ·湿固机械化学法制备Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2磨料 | 第65-69页 |
| ·过氧化氢在磨料制备过程中的作用 | 第65-66页 |
| ·Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2与CeO_2的XRD,Raman和FE-TEM分析 | 第66-69页 |
| ·Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2磨料对ZF7光学玻璃的抛光性能 | 第69-74页 |
| ·Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2与CeO_2磨料的抛光性能比较 | 第69-71页 |
| ·Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2固溶体磨料的抛光性能改善机理探讨 | 第71-72页 |
| ·氯化钠盐对Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2抛光浆料的特性调节作用 | 第72-74页 |
| ·Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2对K9光学玻璃的抛光性能 | 第74-75页 |
| ·Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2对ZF7和K9光学玻璃的不同抛光性能的原因探讨 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第四章 氯化钠盐助醋酸铈热分解合成CeO_2及其光学玻璃抛光性能 | 第77-86页 |
| ·前言 | 第77页 |
| ·实验方法 | 第77-78页 |
| ·氯化钠盐助醋酸铈直接热分解合成CeO_2 | 第77-78页 |
| ·CeO_2的表征方法 | 第78页 |
| ·CeO_2的玻璃抛光性能评价 | 第78页 |
| ·CeO_2粉末的XRD、粒度和SEM分析 | 第78-82页 |
| ·氯化钠盐助机理讨论 | 第82-84页 |
| ·CeO_2磨料对ZF7光学玻璃的抛光性能 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第五章 纳米Ce_(1-x)Ti_xO_2的制备及其硅片化学机械抛光性能 | 第86-107页 |
| ·前言 | 第86-87页 |
| ·实验方法 | 第87-89页 |
| ·纳米CeO_2和Ce_(1-x)Ti_xO_2的制备 | 第87-88页 |
| ·纳米CeO_2和Ce_(1-x)Ti_xO_2的表征 | 第88页 |
| ·硅片CMP抛光的实验装置和评价方法 | 第88-89页 |
| ·醇/水混合介质沉淀法制备纳米CeO_2和Ce_(1-x)Ti_xO_2 | 第89-94页 |
| ·纳米CeO_2和Ce_(1-x)Ti_xO_2的XRD、TG-DTA和TEM分析 | 第89-93页 |
| ·醇/水混合介质沉淀法反应机理分析 | 第93-94页 |
| ·水相体系纳米CeO_2的分散稳定性 | 第94-97页 |
| ·pH值对纳米CeO_2浆料分散稳定性的影响 | 第95-96页 |
| ·表面活性剂对纳米CeO_2浆料分散稳定性的影响 | 第96-97页 |
| ·纳米CeO_2浆料中影响硅片CMP抛光速率的因素 | 第97-103页 |
| ·浆料CeO_2固含量的影响 | 第98-99页 |
| ·抛光转速的影响 | 第99页 |
| ·浆料pH值的影响 | 第99-100页 |
| ·浆料H_2O_2浓度的影响 | 第100-103页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2的硅片抛光性能 | 第103-106页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2磨料粒子的表面性质 | 第103页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2中钛含量对抛光速率的影响 | 第103-105页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2的硅片抛光性能的改善机理探讨 | 第105-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 第六章 总结 | 第107-110页 |
| 主要结论 | 第107-109页 |
| 主要创新点 | 第109-110页 |
| 致谢 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-119页 |
| 攻读博士学位期间的研究成果 | 第119页 |
