| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·一维纳米材料 | 第8-19页 |
| ·一维纳米材料的特性 | 第9-10页 |
| ·一维纳米材料的制备方法 | 第10-17页 |
| ·一维纳米材料的应用 | 第17-19页 |
| ·一维钨纳米材料 | 第19-23页 |
| ·一维钨纳米结构的制备方法 | 第19-21页 |
| ·一维钨纳米结构的生长机理 | 第21-23页 |
| ·一维钨纳米结构的性能及应用 | 第23-24页 |
| ·本论文研究的目的、意义及内容 | 第24-25页 |
| 第二章 工艺流程与实验方法 | 第25-29页 |
| ·前言 | 第25页 |
| ·实验原料及设备 | 第25-26页 |
| ·实验原料 | 第25-26页 |
| ·实验设备 | 第26页 |
| ·实验过程 | 第26-27页 |
| ·实验基本温度曲线 | 第27页 |
| ·主要分析测试手段及目的 | 第27-29页 |
| ·形貌表征及能谱分析 | 第27-28页 |
| ·物相分析 | 第28页 |
| ·结构分析 | 第28-29页 |
| 第三章 钨微/纳米线阵列的制备及实验参数对其生长的影响 | 第29-45页 |
| ·前言 | 第29页 |
| ·钨微/纳米线阵列制备的实验步骤 | 第29-30页 |
| ·钨微/纳米线的表征 | 第30-32页 |
| ·实验参数对钨微/纳米线生长的影响 | 第32-43页 |
| ·硅片位置的影响 | 第32-34页 |
| ·保温时间影响 | 第34页 |
| ·温度的影响 | 第34-43页 |
| ·水浴的影响 | 第43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 第四章 钨微/纳米线阵列生长机理的探讨 | 第45-53页 |
| ·生长机制的确定 | 第45页 |
| ·钨微/纳米线阵列的形成过程 | 第45-51页 |
| ·钨微米管的形成过程 | 第51页 |
| ·小结 | 第51-53页 |
| 第五章 钨微/纳米线阵列的场发射性能 | 第53-61页 |
| ·前言 | 第53-57页 |
| ·场发射及其实质 | 第53页 |
| ·场电子发射的理论基础 | 第53-55页 |
| ·场发射性能的评价标准 | 第55-56页 |
| ·场发射的应用 | 第56-57页 |
| ·钨微/纳米线阵列的场发射性能 | 第57-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第六章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第73页 |