基于光导采样测量方法的光电导开关设计与系统研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题研究的背景 | 第8页 |
| ·国内外研究概况 | 第8-10页 |
| ·光电导开关的主要应用 | 第10-15页 |
| ·超短电磁脉冲发生源 | 第10-11页 |
| ·功率脉冲技术 | 第11-12页 |
| ·超快光电测量技术 | 第12-15页 |
| ·课题的提出 | 第15页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第15-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 第二章 光电导开关的工作原理与版图设计 | 第17-28页 |
| ·光电导开关的基本结构和工作原理 | 第17-18页 |
| ·光电导开关的基本结构 | 第17页 |
| ·光电导开关的基本原理 | 第17-18页 |
| ·光电导开关的工作模式 | 第18-20页 |
| ·光电导开关的线性工作模式及其特点 | 第18页 |
| ·光电导开关的非线性工作模式及其特点 | 第18-19页 |
| ·光电导开关的两种工作模式的比较 | 第19-20页 |
| ·光电导开关输出特性的影响因素 | 第20-21页 |
| ·触发光脉冲参量对输出特性的影响 | 第20页 |
| ·偏置电压对输出特性的影响 | 第20页 |
| ·光导开关的特性参数对输出特性的影响 | 第20-21页 |
| ·载流子复合寿命对输出特性的影响 | 第21页 |
| ·光电导开关的优化设计 | 第21-26页 |
| ·开关衬底材料的选择 | 第21-22页 |
| ·激励光源的选择 | 第22-23页 |
| ·开关间隙的选择 | 第23-24页 |
| ·开关传输线的选择 | 第24-26页 |
| ·超高速光电导开关的版图设计 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 超高速光电导开关的理论模拟分析 | 第28-39页 |
| ·光电导开关的理论模型 | 第28-31页 |
| ·超快光电导开关产生电信号的模拟 | 第31-33页 |
| ·超快光电导开关的频谱分析 | 第33-35页 |
| ·超快光电导开关采样信号的模拟 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 超高速光电导开关的制作与测试 | 第39-53页 |
| ·光电导开关的版图设计 | 第39-40页 |
| ·光电导开关的加工流程 | 第40-41页 |
| ·金属电极和传输线的制作工艺 | 第41-43页 |
| ·钛膜的制备 | 第43-45页 |
| ·对向靶直流磁控溅射钛膜 | 第43-44页 |
| ·Ti 膜的表面平整度和导电性 | 第44-45页 |
| ·氧化钛线的加工 | 第45-50页 |
| ·AFM 针尖诱导阳极氧化加工的原理 | 第45-46页 |
| ·氧化钛线的加工系统 | 第46-47页 |
| ·阳极氧化加工的接线方式 | 第47-48页 |
| ·氧化钛线的加工流程与加工结果 | 第48-50页 |
| ·超高速光电导开关的性能测试 | 第50-52页 |
| ·镀Ti 膜之后开关的I-V 特性曲线 | 第51页 |
| ·氧化钛线形成之后开关的I-V 特性曲线 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 光电导采样实验系统的研究 | 第53-66页 |
| ·采样技术 | 第53-54页 |
| ·光电导开关的自相关测量原理 | 第54-56页 |
| ·光电导采样系统 | 第56-62页 |
| ·光路系统 | 第56-58页 |
| ·延迟采样设计 | 第58-59页 |
| ·微电流放大电路设计 | 第59页 |
| ·信号的锁相检测 | 第59-62页 |
| 1. 锁相放大器的构成 | 第60-61页 |
| 2. 锁相放大器的工作原理 | 第61-62页 |
| ·仪器控制与数据采集设计 | 第62-64页 |
| ·实验设计 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
