| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 NO_x控制技术 | 第11-13页 |
| 1.3 选择性催化还原(SCR)技术 | 第13-15页 |
| 1.3.1 SCR脱硝技术基本原理 | 第13-14页 |
| 1.3.2 商用SCR催化剂研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 铈在NH_3-SCR催化剂中的应用 | 第15-19页 |
| 1.4.1 铈在NH_3-SCR催化剂中的作用 | 第16-17页 |
| 1.4.2 铈基NH_3-SCR催化剂制备方法对其性能的影响 | 第17-18页 |
| 1.4.3 铈基NH_3-SCR催化剂抗硫性能的研究 | 第18-19页 |
| 1.5 本课题的研究内容及意义 | 第19-21页 |
| 1.5.1 本课题的研究意义 | 第19页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验部分 | 第21-29页 |
| 2.1 实验主要试剂和仪器 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验所需化学试剂 | 第21页 |
| 2.1.2 实验主要仪器 | 第21-22页 |
| 2.2 催化剂制备方法 | 第22-24页 |
| 2.2.1 球磨法制备CeO_2催化剂 | 第22-23页 |
| 2.2.2 铈基MOF前驱体的制备 | 第23页 |
| 2.2.3 共沉淀法制备铈钛复合氧化物催化剂 | 第23页 |
| 2.2.4 球磨法制备铈钛复合氧化物催化剂 | 第23-24页 |
| 2.3 催化剂活性评价 | 第24-25页 |
| 2.3.1 催化剂活性评价条件 | 第24-25页 |
| 2.3.2 催化剂寿命评价条件 | 第25页 |
| 2.4 催化剂物化性质表征 | 第25-29页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析(XRD) | 第25页 |
| 2.4.2 比表面分析(BET) | 第25-26页 |
| 2.4.3 傅立叶红外光谱分析(FT-IR) | 第26页 |
| 2.4.4 热重分析(TG) | 第26页 |
| 2.4.5 X射线荧光光谱分析(XRF) | 第26页 |
| 2.4.6 拉曼光谱分析(Raman) | 第26页 |
| 2.4.7 H_2-程序升温还原(H_2-TPR) | 第26-27页 |
| 2.4.8 X射线电子能谱(XPS) | 第27页 |
| 2.4.9 扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
| 2.4.10 透射电子显微镜(TEM) | 第27页 |
| 2.4.11 程序升温脱附(TPD) | 第27-28页 |
| 2.4.12 原位漫反射红外光谱分析(insitu DRIFTS) | 第28-29页 |
| 第3章 有机配体对CeO_2选择性催化还原性能的影响 | 第29-55页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 CeO_2催化剂的制备 | 第29-30页 |
| 3.3 CeO_2催化剂的活性评价 | 第30-32页 |
| 3.3.1 CeO_2催化剂的NH_3-SCR反应活性 | 第30-31页 |
| 3.3.2 H_2O和SO_2对CeO_2催化剂的NH_3-SCR反应活性的影响 | 第31-32页 |
| 3.4 CeO2催化剂的性质表征 | 第32-41页 |
| 3.4.1 BET与XRD结果 | 第32-34页 |
| 3.4.2 SEM和TEM表征结果 | 第34-35页 |
| 3.4.3 拉曼光谱分析 | 第35-36页 |
| 3.4.4 FT-IR分析 | 第36-37页 |
| 3.4.5 TG分析 | 第37-38页 |
| 3.4.6 H2-TPR表征结果 | 第38-40页 |
| 3.4.7 XPS表征结果 | 第40-41页 |
| 3.5 SO_2在CeO_2催化剂表面吸附行为 | 第41-53页 |
| 3.5.1 SO_2-TPD结果 | 第42-43页 |
| 3.5.2 SO_2-Drift结果 | 第43-49页 |
| 3.5.3 硫化处理的CeO_2催化剂的XPS结果 | 第49-53页 |
| 3.6 本章小结 | 第53-55页 |
| 第4章 Ce-MOF作为铈前驱体制备铈钛SCR催化剂 | 第55-69页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 Ce-MOF的相关表征 | 第55-57页 |
| 4.3 以Ce-MOF为铈前驱体制备CeO_2/TiO_2催化剂 | 第57-60页 |
| 4.3.1 CeO_2/TiO_2催化剂的NH_3-SCR反应活性 | 第57-58页 |
| 4.3.2 H_2O和SO_2对CeO_2/TiO_2催化剂的NH_3-SCR反应活性的影响 | 第58-60页 |
| 4.4 XRD、BET和XRF结果 | 第60-61页 |
| 4.5 H_2-TPR表征结果 | 第61-62页 |
| 4.6 XPS表征结果 | 第62-64页 |
| 4.7 TEM-Mapping表征结果 | 第64-67页 |
| 4.8 本章小结 | 第67-69页 |
| 结论与展望 | 第69-71页 |
| 1 结论 | 第69页 |
| 2 展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
